안녕하세요 전기분해 염소발생기 업체에서 근무중인 직장인 입니다.

전극 내구성 test를 위해 1*1cm 전극 시험편을 제작 하였습니다.

극간거리는 3mm, 인가전류는 5A 입니다.

반응면적 외 엣지부, 뒷편은 에폭시 접착제로 실링 해 두었습니다. (사진 첨부)

 

해당 시편을 준비 한 후, 전류를 인가 하니 스파크가 발생하며 엣지부 에폭시가 타 들어감을 확인 했습니다.

추정하기론, 엣지부가 전류밀도가 상대적으로 더 높으며, 완벽하게 실링되지 않은 부분에 전류밀도가 몰리고,

그로 인해 열이 발생해 스파크 발생이 생겼을것이라 추정하는데 (기포 내 스파크)

해당부분에 대해서 잘 알고 계시거나, 잘 알고계신분의 의견을 듣고 싶어 글을 남기게 되었습니다.

엣지부 에폭시를 제거 후엔 스파크가 발생하지 않았습니다.

 

1. 엣지부 에폭시 접착제에 의한 스파크 발생원인은 무엇인지?

2. 에폭시가 아닌, 스케일 발생에도 스파크가 발생 할 것인지?

 

에 대해서 여쭈어 봅니다.

시편사진은 첨부 하도록 하겠습니다.

부디 좋은 의견을 많이 주셨으면 좋겠습니다. 감사합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [330] 102099
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 24547
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 61195
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 73257
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 105471
573 엘립소미터 측정관련해서 질문이 있습니다. [나노광전자 데이터 분석] [1] 1560
572 플라즈마 기술관련 문의 드립니다 [나노 분말 생성 및 제어 연구] [1] 6601
571 ECR ion source에서 plasma가 켜지면 RF reflect가 심해집니다. [ECRiS] [2] 1078
570 Interlock 화면.mag overtemp의 의미 713
569 플라즈마를 이용한 오존 발생기 개발 문의 件 [오존발생기] [1] 1223
568 연속 plasma 방전시 RF power drop 및 Reflect 발생 [Cleaning procedure 플라즈마 공정진단 기술] [1] 1920
567 O2 etch 후 polymer 변성에 관한 문의 file 1333
566 ESC Chuck 기능이 Wafer 위에서의 Chemical Bond 생성을 boosting 할 수 있는지 궁금합니다. [ESC, 쉬스 전기장 및 bias 전력 조절] [1] 6191
565 연면거리에 대해 궁금합니다. [아크 제어] [1] 1149
564 압력 변화와 Ch Impedance 상관관계 질문 [플라즈마 임피던스, 운전압력조절 방전 조건] [1] 2029
563 플라즈마볼 제작시 [전기장 형성 및 플라즈마 방전] [1] file 2609
562 안녕하십니까 파워업체 연구원 입니다.(챔버쪽 임피던스 검출) [플라즈마 특성과 장비 임피던스] [1] file 2869
561 Bias인가 Cable 위치 관련 문의 [플라즈마 분포 관찰] [1] 740
560 Etcher Chamber Wall에 의도적으로 Polymer를 증착시키고 싶습니다. [ONO 공정 중 질화막 모니터링] [2] 3601
559 좁은 간격 CCP 전원의 플라즈마 분포 논문에 대해 궁금한 점이 있습니다. [전력 인가와 플라즈마 밀도] [2] 17013
558 알고싶습니다 [Seasoning, 플라즈마 공정 및 부품 표면 특성 데이터] [1] 1816
557 교수님 안녕하세요, icp 관련 질문이 있습니다. [Self bias 및 ICP E/H mode] [2] 2685
556 Shield 및 housing은 ground와 floating중 어떤게 더 좋은지요 [장비 ground] [2] 1353
555 안녕하세요 OLED 증착 시 궁금한점이있어 문의드립니다. [플라즈마 확산 시간 및 표면 반응 시간 유지] [2] 1042
554 Edge ring 없이 ESC를 구현 가능한지 궁금해서 여쭤봅니다. [웨이퍼 근방 쉬스 특성, Edge ring] [2] 3182

Boards


XE Login