ICP Ar/O2 ICP 플라즈마 관하여 [ICP match impedance]

2018.12.21 07:56

정용진 조회 수:1960

안녕하세요, dusty 플라즈마를 활용해서 나노소재를 만드는 연구를 하는 한 학생입니다.

 

플라즈마 electron density 를 증가하고자 CCP 에서 ICP 로 바꿔서 실험을 진행하고 있는데요,

 

Ar gas 만 흘럿을때는 매우 아름다운 ICP 효과를 얻을 수 있는데,

O2 gas 를 넣는 순간 ICP 효과가 사라집니다.

 

튜브 사이즈는 직경 2인치이고, power 는 200 W 정도 인가하였는데 

매칭박스의 매칭이 잘 되지는 않습니다. 

 

주로 CCP 만 사용하다가 ICP 를 사용하게 되어 매칭박스에 관해 지식이 짧은데,

혹시 ICP 를 사용할때는 이 모드에 맞게 매칭박스를 바꾸어야 하는지요?

 

감사합니다.

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [330] 102064
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 24541
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 61186
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 73234
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 105446
533 O2 plasma, H2 plasma 처리 관련 질문이 있습니다. [Chemical reaction과 pressure] [1] 6739
532 Plasma etch 관련 질문이 드립니다. [Sheath와 uniformity] [1] 1818
531 RPS를 이용한 SIO2 에칭 [Etch와 remote plasma] [1] 2788
530 쉬스(sheath)에서 전자와 이온의 감소 관련하여 질문 [Floating sheath] [1] 2372
529 질문있습니다 교수님 [Deposition] [1] 22700
528 CVD품질과 RF Delibery power 관계 질문 [RF power와 plasma information] [1] 2275
527 KM 모델의 해석에 관한 질문 [Self bias와 ambipolar diffusion] [1] 723
526 remote plasma 데미지 질문 [DC glow discharge와 Breakdown] [1] 14925
525 RF generator 관련 문의드립니다 [Matcher와 line damage] [3] 2368
524 Wafer Warpage에 따른 CCP Type Chamber 내부 Impedance [ESC와 Chamber impedance] [1] 1925
523 안녕하세요. O2 plasma etching에 대해 궁금한 것이 있습니다. [Bias power] [1] 8187
522 산소 플라즈마 처리 관하여 질문드립니다. [DBD] [1] 1435
521 플라즈마의 직진성에 관해 질문드립니다. [PMI] [2] 1461
520 Depostion 진행 중 matcher(shunt, series) 관계 질문 [Matcher와 VI sensor] [3] 4741
519 ECR 플라즈마에 대해서 질문드립니다. [ECR과 uniformity] [1] 3009
518 Plasma Dechuck Process가 궁금합니다. 18026
517 HEATER 교체 이후 SELF BIAS 상승관련 문의 [Self bias와 dummy 공정] [1] 1396
516 Vpp, Vdc 측정관련 문의 [Self bias와 DC offset] [1] 4196
515 간단한 질문 몇개드립니다. [공정 drift와 database] [1] 800
514 matcher에서 load, tune의 역할이 궁금합니다. [Matcher와 impedance] [1] 12407
쓰기
태그

Boards

XE Login