ESC ESC Cooling gas 관련

2019.02.21 19:22

jake88 조회 수:3590

Etch공정에서 ESC Cooling gas로 He을 주로 사용하는데 열전도도가 좋고 불활성가스라는 이유로 많이 사용되는것으로 알고있습니다

비교적 원가가 저렴한 N2가스를 사용하는 경우도 있을까요? 열전도도 반응성이 N2또한 괜찮은것으로 알고있는데 혹시 문제가 있을까요?

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [283] 77255
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20473
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57383
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68909
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92959
367 코로나 방전의 속도에 관하여... [1] 3453
366 RF Power와 균일도 연관성 질문드립니다. [2] 3466
365 RF plasma 증착 시 arcing 관련하여 질문드립니다. [1] 3468
364 plasma sheath 두께의 영향에 대하여 질문드립니다. [2] 3495
363 Bias 관련 질문 드립니다. [1] 3504
362 Gas 별 Plasma 색 관련 질문입니다. [1] 3553
361 방전에서의 재질 질문입니다. [1] 3568
» ESC Cooling gas 관련 [1] 3590
359 CCP 구조가 ICP 구조보다 Arcing 발생에 더 취약한가요? [3] 3611
358 Plasma Etch시 Wafer Edge 영향 [1] 3620
357 dry etching중 온도, 진공도, glass상태에 따라 chucking force가 변화하는지요? [1] 3635
356 ICP-RIE process 및 plasma에 대해 질문있습니다. [2] 3706
355 플라즈마 임피던스와 Vpp가 관련이 있나요? [1] 3706
354 Vpp, Vdc 측정관련 문의 [1] 3754
353 Descum 관련 문의 사항. [1] 3793
352 DC스퍼터링과 RF스퍼터링에서의 처음 전자의 출처와 처음 이온의 생성 질문 [2] 3869
351 CCP/ICP 의 플라즈마 밀도/균일도 에 대해서 질문이 있습니다. [3] 3875
350 진공장치 챔버내 산소 또는 수분 제거 방법에 대해 [1] 3879
349 the lines of magnetic  induction are frozen into the perfectly conducting material에 대한 질문 [1] file 3979
348 Plasma 식각 test 관련 문의 [1] 3990

Boards


XE Login