Sputtering 부가적인 스퍼터링 관련 질문 드립니다. [라디컬의 화학반응성 및 DC 타깃 전극]

2019.03.04 10:48

대구한밭 조회 수:1744

안녕하세요.

PECVD로 탄소 박막을 합성하고, 표면을 Oxide 시키기 위해 plasma asher로 200W/30 min 동안

처리하였는데 반응이 없어 다른 방법을 모색중입니다.

그래서 스퍼터로 가능할까 싶어서 궁금증을 여기에 풀어 봅니다.

보통 O2/N2는 반응성 스퍼터링에 사용되는 것으로 알고 있습니다.

혹시나, (1) Ar 대신 O2 or N2만 주입해도 플라즈마가 형성이 가능한가요?

그리고 (2) 타겟없이도 플라즈마가 뜨는가요?

이 두 부분이 궁금합니다.

생뚱맞는 질문일수도 있지만,

답변 부탁드립니다.

감사합니다.

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [329] 98464
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 23887
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 60564
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 72440
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 103209
472 dry etching중 온도, 진공도, glass상태에 따라 chucking force가 변화하는지요? [표면 하전 특성 및 chucking 불안정성] [1] 4090
471 Plasma Etching 교재 추천 부탁드립니다. [플라즈마 식각기술, Plasma Etching] [3] 1320
470 기판 위에서 Radical의 운동역학에 관하여 질문드립니다. [2] 964
469 ICP plasma에서 RF bias에 대한 문의가 있습니다 [Self bias 및 플라즈마 방전 매커니즘] [2] 4482
468 VPS 공정에서 압력변수관련 질문입니다. [VPS] [1] 704
467 임피던스 실수부에 대해 궁금한 점이 있습니다. [플라즈마 dielectric property] [4] 2745
466 쉬쓰 천이지역에 관한 질문입니다. [Ambipolar diffusion] [1] 1369
465 Langmuir probe의 위치에 관한 질문입니다. [전자 소실 및 플라즈마 전위] [3] 1646
464 상압플라즈마 제품 원리 질문드립니다 [I-V characteristic 방전 커브] [2] 1181
463 식각 시 나타나는 micro-trench 문제 [소자 식각 데미지] [1] 2430
462 plasma etching을 관련 문의드립니다. [반도체 공동 연구소] [1] 2617
461 Wafer particle 성분 분석 [플라즈마 세정] [1] 2573
460 고온의 플라즈마와 저온의 플라즈마의 차이 [플라즈마 물리/화학적 특성, 중성입자 거동 및 자기장 성질] [1] 4228
459 charge effect에 대해 [Self bias 및 capacitively couple] [2] 1805
458 PECVD 증착에서 etching 관계 [PECVD 증착] [1] 2053
457 터보펌프 에러관련 [터보 펌프 구동 압력] [1] 2012
456 프리쉬스에 관한 질문입니다. [Ambipolar diffusion 및 collisionless sheath] [1] 844
» 부가적인 스퍼터링 관련 질문 드립니다. [라디컬의 화학반응성 및 DC 타깃 전극] [1] 1744
454 플라즈마 충격파 질문 [플라즈마 생성에 의한 충격파 현상] [1] 1038
453 ESC Cooling gas 관련 [ESC 온도 제어] [1] 3908
쓰기
태그

Boards

XE Login