Monitoring Method charge effect에 대해

2019.03.20 11:10

리미 조회 수:957

안녕하세요

저는 SiO2 기판을 홀더 위에 두고 수소플라즈마를 띄워 실험을 진행하는데

이 기판이 부도체이다보니 기판에 전하가 빠져나가지 못하고 축적되는 것 같습니다.

이 기판의 charge effect를 챔버안 플라즈마를 띄운 상태에서 어떤 장비를 사용하여 실험적으로 어떻게 측정할 수 있는지 혹은 관련 논문이 있는지 알고싶습니다.

답변기다리고 있겠습니다. 감사합니다.

번호 제목 조회 수
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 218
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 48923
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 56113
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [1] 63532
475 안녕하세요 ICP dry etching 관련 질문사항드립니다! [1] 692
474 PEALD관련 질문 [1] 2018
473 N2 Plasma 상태에 대해서 질문 드립니다. [1] 697
472 dry etching중 온도, 진공도, glass상태에 따라 chucking force가 변화하는지요? [1] 1108
471 Plasma Etching 교재 추천 부탁드립니다.. [3] 601
470 기판 위에서 Radical의 운동역학에 관하여 질문드립니다. [2] 320
469 ICP plasma에서 RF bias에 대한 문의가 있습니다 [2] 984
468 VPS 공정에서 압력변수관련 질문입니다. [1] 191
467 임피던스 실수부에 대해 궁금한 점이 있습니다. [4] 887
466 쉬쓰 천이지역에 관한 질문입니다. [1] 712
465 Langmuir probe의 위치에 관한 질문입니다. [3] 543
464 상압플라즈마 제품 원리 질문드립니다 [2] 565
463 식각 시 나타나는 micro-trench 문제 [1] 1075
462 plasma etching을 관련 문의드립니다. [1] 1660
461 Wafer particle 성분 분석 [1] 1403
460 고온의 플라즈마와 저온의 플라즈마의 차이 [1] 941
» charge effect에 대해 [2] 957
458 PECVD 증착에서 etching 관계 [1] 653
457 터보펌프 에러관련 [1] 1224
456 프리쉬스에 관한 질문입니다. [1] 309

Boards


XE Login