안녕하세요. 서울대학교 재료공학부 오규환 교수님 연구실 박사과정 정제준입니다.

SiC 샘플에 plasma etching을 하려고 하는데 CF4 or O2 플라즈마를 이용해서 실험을 해보려고 합니다.

1. 플라즈마 응용연구실에서 장비가 있다면 사용이 가능한지요?

2. SiC etching에 다른 플라즈마 소스를 추천해주신다면 어떤게 있을까요?

3. 장비가 없으시면 다른곳을 추천해주시면 감사하겠습니다.


감사합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [283] 77227
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20468
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57362
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68903
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92951
806 Surface wave plasma 조건에 관해 질문드립니다. 13
805 Ion 입사각을 확인하는 방법 문의드립니다 [1] 27
804 CCP Chamber 사용 중 Impedance 변화 원인 문의드립니다. [1] 27
803 C2H2 플라즈마코팅시 가스 원인과 대책 39
802 CVD 박막 Clean 중 Ar에 의한 Etch 여부가 궁금합니다. [1] 45
801 Druyvesteyn Distribution 49
800 DBD 방전 방식의 저온 플라즈마 관련해서 3가지 질문 드립니다. [1] 54
799 스터퍼링시 기판 온도 계산에 대해 질문드립니다! [1] 60
798 플라즈마 식각 커스핑 식각량 61
797 PECVD 실험을 하려고 하는데 조언 구합니다. 69
796 내플라즈마 코팅의 절연손실에 따른 챔버 내부 분위기 영향 여부 질문드립니다. [1] 77
795 ICP Plasma etch chamber 구조가 궁금합니다. [1] 78
794 공정 DATA TARGET 간 난제가 있어 문의드립니다. [1] 83
793 Ni DC 스퍼터 관련 질문있습니다. [1] 86
792 자성 물질 Etching 시 Process Parameter 질문 [1] 89
791 스미스차트의 저항계수에 대한 질문드립니다 91
790 HE LEAK 과 접촉저항사이 관계 [1] 92
789 RF 반사와 전기에서 쓰이는 무효전력 반사 차이점이 궁금합니다. [1] 102
788 플라즈마 설비에 대한 질문 113
787 RF magnetron Sputtering 공정에서의 질문 [1] 120

Boards


XE Login