안녕하세요. 서울대학교 재료공학부 오규환 교수님 연구실 박사과정 정제준입니다.

SiC 샘플에 plasma etching을 하려고 하는데 CF4 or O2 플라즈마를 이용해서 실험을 해보려고 합니다.

1. 플라즈마 응용연구실에서 장비가 있다면 사용이 가능한지요?

2. SiC etching에 다른 플라즈마 소스를 추천해주신다면 어떤게 있을까요?

3. 장비가 없으시면 다른곳을 추천해주시면 감사하겠습니다.

 

감사합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [338] 232518
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 68001
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 105107
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 117295
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 199673
478 Plasma에 의한 분해 및 치환 반응(질문) [Powder] [1] 2327
477 RPG Cleaning에 관한 질문입니다. [라디컬 측정 방법 및 세정 기술] [2] 4934
476 리모트 플라스마 소스 AK 부품 수출 관련 질문 입니다 반도체 장비 부풉ㅁ 2133
475 안녕하세요 ICP dry etching 관련 질문사항드립니다! [N2 플라즈마] [1] 4245
474 PEALD관련 질문 [Passivation 막 증착 과정] [1] 35820
473 N2 Plasma 상태에 대해서 질문 드립니다. [충돌 반응 및 전력 전달 모델] [1] 5205
472 dry etching중 온도, 진공도, glass상태에 따라 chucking force가 변화하는지요? [표면 하전 특성 및 chucking 불안정성] [1] 6402
471 Plasma Etching 교재 추천 부탁드립니다. [플라즈마 식각기술, Plasma Etching] [3] 2834
470 기판 위에서 Radical의 운동역학에 관하여 질문드립니다. [2] 3335
469 ICP plasma에서 RF bias에 대한 문의가 있습니다 [Self bias 및 플라즈마 방전 매커니즘] [2] 6163
468 VPS 공정에서 압력변수관련 질문입니다. [VPS] [1] 2696
467 임피던스 실수부에 대해 궁금한 점이 있습니다. [플라즈마 dielectric property] [4] 4296
466 쉬쓰 천이지역에 관한 질문입니다. [Ambipolar diffusion] [1] 3501
465 Langmuir probe의 위치에 관한 질문입니다. [전자 소실 및 플라즈마 전위] [3] 4909
464 상압플라즈마 제품 원리 질문드립니다 [I-V characteristic 방전 커브] [2] 3396
463 식각 시 나타나는 micro-trench 문제 [소자 식각 데미지] [1] 4202
» plasma etching을 관련 문의드립니다. [반도체 공동 연구소] [1] 3846
461 Wafer particle 성분 분석 [플라즈마 세정] [1] 4306
460 고온의 플라즈마와 저온의 플라즈마의 차이 [플라즈마 물리/화학적 특성, 중성입자 거동 및 자기장 성질] [1] 5990
459 charge effect에 대해 [Self bias 및 capacitively couple] [2] 3647

Boards


XE Login