안녕하세요,

반도체 업체에서 PVD, Descum을 담당하고 있는 엔지니어 입니다.

원래 담당이 Plasma 계열이 아니라 많은 것들이 부족하여 찾아찾아 이곳까지 발을 들이게 되었습니다. 궁금한 사항은 하기와 같습니다.

-. 현재 ICP type plasma 장비를 사용하고 있습니다.

-. ICP 설비 사용함에 있어 RF를 사용하여 coil에 bias를 인가함으로  plasma를 발생시키는 것과, platen(chuck)에 bias를 인가 하여 (-)극으로 만드는 것까지는 이해하고 있습니다.


==>  여기서, RF bias인가를 통해 platen이 (-)극으로 변경되었을 때, DC bias라는 명칭이 사용되는데(장비상 display, Vdc 또는 DC bias), 이 부분이 self bias를 통해 생성되는 bias라고 생각하면 되는 것인가요?

==> 그리고 Vdc 또는 DC bias로 display되는 전압이 혹시 DC 전원을 사용한 plasma와 동일한 영향력을 가지고 있는지 궁금합니다.

==> 영향력이 의미하는 부분은 DC 전원 사용하여 만든 음극은 electrode에 민감한 MEMS 자재를 작업하기엔 어렵기 때문에, 혹시 RF bias로 만든 DC bias가 DC전원을 사용했을 때와 동일한 effect를 가지는지가 궁금합니다.


답변주시면 감사드리겠습니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [267] 76710
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20162
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57162
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68684
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92244
488 [질문] Plasma 장비에 대한 Monitoring 질문 [2] 1371
487 Ion과 Radical의 이동 거리 및 거리에 따른 농도와 증착 품질 관련 [1] 734
486 Matcher의 Load, Tune 영향을 미치는 요소가 궁금합니다. [2] 6268
485 EEDF, IEDF, Cross section관련 질문 [1] 1642
484 ICP, CCP 그리고 Ion Implantation 공정 관련 질문 드립니다. [1] 1176
483 matcher, ESC, Heater에 대해 질문 드립니다. [3] 3176
482 HF/F2와 silica 글래스 에칭율 자료가 있을까요? 2869
481 교수님 질문이 있습니다. [1] 740
480 wafer bias [1] 1129
479 Group Delay 문의드립니다. [1] 1143
478 Plasma에 의한 분해 및 치환 반응(질문) [1] 513
477 RPG Cleaning에 관한 질문입니다. [2] 1999
476 리모트 플라스마 소스 AK 부품 수출 관련 질문 입니다 반도체 장비 부풉ㅁ 1045
475 안녕하세요 ICP dry etching 관련 질문사항드립니다! [1] 1950
474 PEALD관련 질문 [1] 32612
473 N2 Plasma 상태에 대해서 질문 드립니다. [1] 2208
472 dry etching중 온도, 진공도, glass상태에 따라 chucking force가 변화하는지요? [1] 3498
471 Plasma Etching 교재 추천 부탁드립니다.. [3] 1070
470 기판 위에서 Radical의 운동역학에 관하여 질문드립니다. [2] 707
» ICP plasma에서 RF bias에 대한 문의가 있습니다 [2] 3953

Boards


XE Login