안녕하세요. 반도체 회사에 근무중인 회사원 입니다.


다름이 아니고 PECVD로 박막 증착 시 Radical들의 움직임에 관해 궁금한 점이 있어서 글을 올립니다.


Radical이 Wafer위에서 migration후 반응하여 island를 만들고 그 섬들이 성장하여 박막을 형성하는 것으로 알고 있는데


Radical이 가지는 에너지, 기판의 온도, 기판을 이루는 물질과의 결합에너지 등을 통해 Radical이 기판위에서


평균적으로 얼마나 움직이는지, 어느 위치를 안정적인 site로 인식하고 반응하는지 등을 알 수 있을까요?

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [316] 82172
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 21881
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 58669
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 70291
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 96039
484 ICP, CCP 그리고 Ion Implantation 공정 관련 질문 드립니다. [플라즈마 방전 및 이온 가속] [1] 1319
483 matcher, ESC, Heater에 대해 질문 드립니다. [회로 모델 및 부품 impedance] [3] 3412
482 HF/F2와 silica 글래스 에칭율 자료가 있을까요? 3018
481 교수님 질문이 있습니다. [Child-Langmuir sheath] [1] 882
480 wafer bias [Self bias] [1] 1280
479 Group Delay 문의드립니다. [마이크로파] [1] 1251
478 Plasma에 의한 분해 및 치환 반응(질문) [Powder] [1] 614
477 RPG Cleaning에 관한 질문입니다. [라디컬 측정 방법 및 세정 기술] [2] 2301
476 리모트 플라스마 소스 AK 부품 수출 관련 질문 입니다 반도체 장비 부풉ㅁ 1116
475 안녕하세요 ICP dry etching 관련 질문사항드립니다! [N2 플라즈마] [1] 2176
474 PEALD관련 질문 [Passivation 막 증착 과정] [1] 32783
473 N2 Plasma 상태에 대해서 질문 드립니다. [충돌 반응 및 전력 전달 모델] [1] 2577
472 dry etching중 온도, 진공도, glass상태에 따라 chucking force가 변화하는지요? [표면 하전 특성 및 chucking 불안정성] [1] 3892
471 Plasma Etching 교재 추천 부탁드립니다. [플라즈마 식각기술, Plasma Etching] [3] 1202
» 기판 위에서 Radical의 운동역학에 관하여 질문드립니다. [2] 861
469 ICP plasma에서 RF bias에 대한 문의가 있습니다 [Self bias 및 플라즈마 방전 매커니즘] [2] 4239
468 VPS 공정에서 압력변수관련 질문입니다. [VPS] [1] 524
467 임피던스 실수부에 대해 궁금한 점이 있습니다. [플라즈마 dielectric property] [4] 2551
466 쉬쓰 천이지역에 관한 질문입니다. [Ambipolar diffusion] [1] 1259
465 Langmuir probe의 위치에 관한 질문입니다. [전자 소실 및 플라즈마 전위] [3] 1503

Boards


XE Login