matcher를 봤을 때 직렬은 tune 병렬은 load라 튠값으로는 리액턴스를 로드 값으로는 저항성분에 대해 알 수 있다고 알고 있는데요

가끔 로드랑 튠 값이 흔들리고 산포가 좋지 않을 때가 있다합니다. 이렇게 값들이 흔들리는 이유로는 전체적으로 뭐가 있을까요?

또 plasma를 켰을 떄 매쳐의 로드와 튠 값에 영향을 주는 이자들은 무엇들이 있을까요?

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [113] 4916
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 16260
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 51250
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 63764
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [2] 83575
499 임피던스 매칭회로 [1] file 2121
498 전쉬스에 대한 간단한 질문 [1] 405
497 CCP기반 power와 Etch rate 관계에 대해 여쭈어드립니다. [3] 1107
496 glow 방전 현상과 플라즈마 현상에 궁금하여 글 남깁니다. [2] 825
495 plasma sheath 두께의 영향에 대하여 질문드립니다. [2] 2014
494 대학원 진학 질문 있습니다. [2] 799
493 질문있습니다. [1] 1439
492 chamber impedance [1] 1676
491 PECVD Precursor 별 Arcing 원인 [1] 1628
490 플라즈마 관련 기초지식 [1] 1401
» 매쳐에서의 load, tune에 대하여 좀 가르쳐 주세요~ [1] 4073
488 [질문] Plasma 장비에 대한 Monitoring 질문 [2] 849
487 Ion과 Radical의 이동 거리 및 거리에 따른 농도와 증착 품질 관련 [1] 480
486 Matcher의 Load, Tune 영향을 미치는 요소가 궁금합니다. [2] 5634
485 EEDF, IEDF, Cross section관련 질문 [1] 943
484 ICP, CCP 그리고 Ion Implantation 공정 관련 질문 드립니다. [1] 839
483 matcher, ESC, Heater에 대해 질문 드립니다. [3] 1795
482 HF/F2와 silica 글래스 에칭율 자료가 있을까요? 2415
481 교수님 질문이 있습니다. [1] 541
480 wafer bias [1] 773

Boards


XE Login