안녕하십니까 플라즈마 입문단계를 공부하고 있는 전기공학과 학생입니다.

다름이 아니라 공부를 하는 중에 플라즈마 소스 부분에 직류 글로우 방전에서 r-process 부분에서 2차 방출이 일어나는데

여기서 이차전자가 이온화를 잘시키는 것으로 알고 있습니다. 하지만 이온은 그에 비해 잘 시키지 못한것 같습니다

정리하자면 플라즈마에서 이온은 전자에 비해 중성종을 이온화시키기 어려운 이유가 무엇일까요?

기본적인 내용인데 많이 부족해서 모르겠습니다.

부탁드립니다!! 감사합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [282] 77210
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20465
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57362
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68901
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92946
506 MFP에 대해서.. [1] 7838
505 플라즈마 쪽에 관심이 많은 고등학생입니다. [1] 7714
504 CCP에서 DIelectric(유전체)의 역활 [1] 7678
503 정전척 isolation 문의 입니다. [1] 7676
502 RF Generator와 Impedance 관련 질문있습니다 [2] 7340
501 ETCH 관련 RF MATCHING 중 REF 현상에 대한 질문입니다. [1] 7134
500 안녕하세요. O2 plasma etching에 대해 궁금한 것이 있습니다. [1] 6825
499 저온 플라즈마에 관해서 [1] 6715
498 안녕하세요, 질문드립니다. [2] 6573
497 플라스마 상태에서도 보일-샤를 법칙이 적용 되나요? [1] 6543
496 플라즈마 건식식각 장비 부품 정전척 공정 진행 후 외각 He-hole 부위 burning 현상 매카니즘 문의.. [1] 6514
495 플라즈마 데미지에 관하여.. [1] 6504
494 저온플라즈마에 대하여 ..질문드립니다 ㅠ [1] 6479
493 O2 plasma, H2 plasma 처리 관련 질문이 있습니다. [1] 6468
492 O2 플라즈마 표면처리 관련 질문2154 [1] 6467
491 플라즈마 기술관련 문의 드립니다 [1] 6422
490 액체 안에서의 Dielectric Barrier Discharge에 관하여 질문드립니다! [1] 6413
489 공동형 플라즈마에서 구리 전극의 식각 문제 [2] 6374
488 O2, N2, Ar 플라즈마에 대한 질문입니다. [2] 6326
487 RPS를 이용한 NF3와 CF4 Etch Rate 차이 [4] 6317

Boards


XE Login