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공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
[279]
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공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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801 |
HE LEAK 과 접촉저항사이 관계
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800 |
PECVD 실험을 하려고 하는데 조언 구합니다.
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스터퍼링시 기판 온도 계산에 대해 질문드립니다!
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798 |
공정 DATA TARGET 간 난제가 있어 문의드립니다.
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797 |
Si 와 SiO의 선택적 식각 관련 문의입니다.
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796 |
Druyvesteyn Distribution
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795 |
플라즈마 식각 커스핑 식각량
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794 |
Showerhead와 Heater간 간격에 따른 RPC 효율성
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793 |
C2H2 플라즈마코팅시 가스 원인과 대책
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792 |
DBD 방전 방식의 저온 플라즈마 관련해서 3가지 질문 드립니다.
[1] | 37 |
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791 |
새삼스럽지만 챔버 내에 전류의 정의를 여쭤보고싶습니다.
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790 |
진공 챔버에서 Plasma Off시 Particle의 wafer 표면 충돌 속도
[1] | 102 |
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789 |
플라즈마 설비에 대한 질문
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788 |
RF magnetron Sputtering 공정에서의 질문
[1] | 104 |
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787 |
Non-maxwellian 전자 분포의 원인
[1] | 233 |
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786 |
skin depth에 대한 이해
[1] | 184 |
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785 |
Impedance I 값을 결정 짓는 요소 관련 질문
[1] | 130 |
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784 |
반사파에 의한 micro arc 질문
[2] | 125 |
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783 |
ICP에서의 Self bias 효과
[1] | 212 |
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782 |
CF4/Ar 을 활용한 Si/SiO2 에칭에 관한 질문입니다.
[1]  | 176 |
