Plasma Source Plasma Dechuck Process가 궁금합니다.

2020.02.02 02:25

굴음히 조회 수:17725

안녕하세요 저는 반도체관련 업체에서 일하고 있는 최철운입니다.

ESC쪽을 공부하면서 Plasma Dechuck process가 궁금해졌는데요.

J-R TYPE ESC 같은 경우 일반적으로  ESC쪽의 Voltage를 끈 후 wafer의 잔여 전하를 Plasma를 이용해 dechuck을 한다고하는데 이는 어떤 process로 행해지는 지 궁금합니다. 체 추측으로는 plasma들이 wafer를 때리면서 중성화를 시켜 dechuck을 시킨다고 생각이 되는데 맞는지요?


또한 궁금한게 Columb Force방식의 ESC는 voltage를 끌시 잔여 전하가 남지 않기때문에 바로 Dechuck이 되며 plasma를 킬필요가 없다고하는데 Plasma dechuck을 사용하여 particle 개선 효과가 있는지 궁금합니다.

 Plasma Dechuck을 사용할시 챔버 내의  잔류 가스들을 가두고 wafer표면에 떨어지게 막으면서 pump쪽으로 흐르게하는 것인가요? 어떤 원리로 particle 제거 효과가 있는지... 궁금합니다.


감사합니다~

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [283] 77218
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20468
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57362
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68901
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92950
606 문의 드립니다. [1] 882
605 RF 전류가 흐르는 Shower head를 TC로 온도 측정 할 때 [1] 887
604 ICP BIPOLAR ESC 관련 이론과 Chuck Force 계산 질문드립니다ICP BIPOLAR ESC 관련 이론과 Chuck Force 계산 질문드립니다 [1] file 888
603 플라즈마 이용 metal residue 제거방법 문의드립니다. [1] 900
602 O2 Asher o-ring 문의드립니다. [1] 908
601 Dry Chamber VPP 변동 관련 질문입니다 [1] 911
600 Plasma Generator 관련해서요. [1] 914
599 플라즈마 세정 장비 (CCP구조)에서 자재 로딩 수에 따른 플라즈마 효과 및 Discolor [1] file 917
598 RF 전압인가 시 LF와 HF 에서의 Sheath 비교 [1] 923
597 플라즈마 구에서 나타나는 현상이 궁금합니다. [1] 943
596 안녕하세요 플라즈마의 원초적인 개념에서 궁금한 점이 생겨서 질문드립니다. [1] 945
595 플라즈마 기초에 관하여 질문드립니다. [1] 946
594 상압플라즈마 제품 원리 질문드립니다 [2] 967
593 O2 Plasma 에칭 실험이요 [1] 971
592 플라즈마를 이용한 오존 발생기 개발 문의 件 [1] 977
591 RF tune position 과 Vrms의 관계가 궁금합니다 [1] 985
590 3-body recombination 관련 문의드립니다. [2] 987
589 Shield 및 housing은 ground 와 floating 중 어떤게 더 좋은지요 [2] 987
588 Tungsten 표면 Contamination 제거(실명재등록) [1] 988
587 아래 382 번 질문에 대한 추가 질문 드립니다. [1] 1009
쓰기
태그

Boards

XE Login