안녕하십니까 교수님 저는 한양대학교에서 학부연구생으로 공부를 하고 있는 이창경입니다.

제가 플라즈마에 대해서 공부를 하고 있는중에 플라즈마 소스에 대해서 여러가지 알아보았습니다.

그런데 요즘은 ICP 플라즈마 소스의 등장으로 ECR 플라즈마 소스를 잘 사용하지 않는다고 들었는데 그 이유를 정확히 찾지 못하다 교수님의 연구실 홈페이지를 알게 됐고 질문방에 답을 찾다가 찾지 못해서 이렇게 직접 글을 올리게 됐습니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [266] 76700
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20156
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57159
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68682
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92222
527 KM 모델의 해석에 관한 질문 [1] 446
526 remote plasma 데미지 질문 [1] 14453
525 RF generator 관련 문의드립니다 [3] 1910
524 Wafer Warpage에 따른 CCP Type Chamber 내부 Impedance [1] 1258
523 안녕하세요. O2 plasma etching에 대해 궁금한 것이 있습니다. [1] 6550
522 산소 플라즈마 처리 관하여 질문드립니다. [1] 1160
521 플라즈마의 직진성에 관해 질문드립니다. [2] 1235
520 Deposition 진행 중 matcher(shunt,series) 관계 질문 [3] 3902
» ECR 플라즈마에 대해서 질문 드립니다. [1] 2230
518 Plasma Dechuck Process가 궁금합니다. 17666
517 HEATER 교체 이후 SELF BIAS 상승관련 문의 [1] 1052
516 Vpp, Vdc 측정관련 문의 [1] 3684
515 간단한 질문 몇개드립니다. [1] 587
514 matcher에서 load,tune의 역할이 궁금합니다. [1] 10329
513 Si Wafer에 Plasma를 처리했을때 정전기 발생 [1] 799
512 Hollow Cathode glow Discharge 실험 관련해서 여쭤보고싶습니다. [1] file 754
511 에쳐장비HF/LF 그라운드 관련 [1] 19774
510 매쳐 출력값 검토 부탁 드립니다. [1] 839
509 ICP-RIE process 및 plasma에 대해 질문있습니다. [2] 3641
508 진학으로 고민이 있습니다. [2] 1030

Boards


XE Login