안녕하세요 

 

반도체 공부하고 있는 학생입니다

 

반도체 관련 논문을 읽다 모르는 것이 있어 질문드립니다

remote plasma  경우 소스와 타겟 물질의 거리가 멀어 direct plasma 보다 플라즈마 데미지가 낮다고 하는데,

제가 알기로는 거리가 멀면 mean free path가 길어지고 플라즈마가 가속되어 에너지가 더 큰 것으로 알고 있습니다

그럼 충돌에너지가 커서 데미지가 더 커지는거 아닌가요..?

 

자세한 답변 부탁드립니다 감사합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [324] 90200
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 23207
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 59869
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 71706
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 100398
530 쉬스(sheath)에서 전자와 이온의 감소 관련하여 질문 [Floating sheath] [1] 2258
529 질문있습니다 교수님 [Deposition] [1] 22625
528 CVD품질과 RF Delibery power 관계 질문 [RF power와 plasma information] [1] 2142
527 KM 모델의 해석에 관한 질문 [Self bias와 ambipolar diffusion] [1] 653
» remote plasma 데미지 질문 [DC glow discharge와 Breakdown] [1] 14804
525 RF generator 관련 문의드립니다 [Matcher와 line damage] [3] 2275
524 Wafer Warpage에 따른 CCP Type Chamber 내부 Impedance [ESC와 Chamber impedance] [1] 1767
523 안녕하세요. O2 plasma etching에 대해 궁금한 것이 있습니다. [Bias power] [1] 7833
522 산소 플라즈마 처리 관하여 질문드립니다. [DBD] [1] 1388
521 플라즈마의 직진성에 관해 질문드립니다. [PMI] [2] 1406
520 Depostion 진행 중 matcher(shunt, series) 관계 질문 [Matcher와 VI sensor] [3] 4553
519 ECR 플라즈마에 대해서 질문드립니다. [ECR과 uniformity] [1] 2833
518 Plasma Dechuck Process가 궁금합니다. 17930
517 HEATER 교체 이후 SELF BIAS 상승관련 문의 [Self bias와 dummy 공정] [1] 1301
516 Vpp, Vdc 측정관련 문의 [Self bias와 DC offset] [1] 4059
515 간단한 질문 몇개드립니다. [공정 drift와 database] [1] 740
514 matcher에서 load, tune의 역할이 궁금합니다. [Matcher와 impedance] [1] 11868
513 Si Wafer에 Plasma를 처리했을때 정전기 발생 [Particle 관리] [1] 1088
512 Hollow Cahthode glow Discharge 실험 관련해서 여쭤보고싶습니다. [장치 setting과 전극재료] [1] file 984
511 에쳐장비HF/LF 그라운드 관련 [1] 19964

Boards


XE Login