Ashing O2 Asher o-ring 문의드립니다.
2020.07.30 19:43
안녕하세요
재직중인 곳에서 O2 Asher 를 사용하고 있습니다.
약 3개월 마다 장비 유지보수 및 cleaning을 진행하고 있는데
그때마다 항상 O-ring이 갈라져 있고, 주변으로 흰색 가루(?) 같은 것들이 있습니다.
Ar를 사용하는 PVD 장비의 O-ring은 1년을 써도 멀쩡한데 O2 asher만 그러네요....
O-ring 재질은 바이톤 재질을 사용하고 있습니다.
O2 Asher에 적합한 O-ring이 무엇인지 알고 싶습니다.
그리고 발생된 흰가루나 갈라진 O-ring이 out gasing, particle을 유발하여 제품에 영향을 미칠까요?
작업 용도는 세라믹 기판에 코팅된 PR을 노광 및 현상 후 표면 Cleaning 용도로 쓰고 있습니다.
무더위 건강 유의하시고 좋은 하루 되시길 바랍니다.!!
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [279] | 77111 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20407 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57319 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68860 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92874 |
741 | ICP dry etch 장비에서 skin depth가 클수록 좋다고 볼 수 있는 건가요? [1] | 24409 |
740 | [질문] ICP plasma 를 이용하여 증착에 사용하고 있는데요. [3] | 24372 |
739 | Dechucking 시 wafer 상의 전하 문제 | 24201 |
738 | 플라즈마에 관해 질문 있습니다!! | 24126 |
737 | self Bias voltage | 24108 |
736 | plasma and sheath, 플라즈마 크기 | 23995 |
735 | 플라즈마 쉬스 | 23976 |
734 | Arcing | 23866 |
733 | N2 플라즈마 공정 시간에 따른 Etching rate의 변화 이유가 알고 싶어요 [2] | 23781 |
732 | 플라즈마 물리학책을 읽고 싶습니다. | 23470 |
731 | 광플라즈마(Photoplasma)라는 것이 있는가요? | 23425 |
730 | HVDC Current '0'으로 떨어지고, RF Bias Reflect (RF matching이 깨지는 현상) 발생 | 23349 |
729 | CCP 방식에 Vdc 모니터링 궁금점. | 23278 |
728 | DC glow discharge | 23272 |
727 | 고온플라즈마와 저온플라즈마 | 23164 |
726 | No. of antenna coil turns for ICP | 23127 |
725 | 입력전력에 따른 플라즈마 밀도 변화 (ICP/CCP) | 23112 |
724 | CCP/ICP , E/H mode | 23085 |
723 | 안녕하세요. O2 Plasma 관련 질문좀 드리겠습니다. | 22953 |
722 | floating substrate 에서 sheath 형성 과정 의문점 [2] | 22860 |
제 생각에는 Asher chamber 에서 Oring 근방의 열변화 및 산화에 의한 경화가 심할 수 밖에 없을 것 같습니다. 플라즈마의 역할이 열(에너지)전달과 산화(해리 진작)이 고려되고 세정 후 byprodcut가 oring 열화에 기여할 것 같지는 않습니다. 개선책은 딱히 떠오르지 않습니다만, 디자인으로 일부 늦출 수 있지 않을지 모르겠습니다. (plasma 열 전달과 plasma 확산 부에서 현재위치 보다 떨어뜨리거나 냉각효율이 높게 oring groove 를 세밀하게 조절하는 방법 등이 어떨까 합니다. 자칫 공정에 영향을 미칠 수 있는 부분이니 데이터를 축적해서 교정해 나가는 것이 좋겠습니다.