안녕하십니까 김곤호 교수님

ESC를 공부하다가 어려운 내용이 있어서 이렇게 글을 올려봅니다.

전극 형태만 다르고 모두 같은 조건의 ESC중에 (interdigital 형식 전극과  Capacitor 형식의 전극이 큰 전극)

Chucking Force가 어떤 것이 높은지 궁굼합니다.

또 이 두가지의 장단점을 조금만 설명해 주시면 큰 도움이 될 것 같습니다.

대략적인 사진 첨부 드립니다. 컨펌 부탁드리겠습니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [112] 4887
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 16225
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 51250
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 63745
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [2] 83512
558 알고싶습니다 [1] 629
557 교수님 안녕하세요, icp 관련 질문이 있습니다. [2] 1628
556 Shield 및 housing은 ground 와 floating 중 어떤게 더 좋은지요 [2] 402
555 안녕하세요 OLED 증착 시 궁금한점이있어 문의드립니다 [2] 429
554 Edge ring 없이 ESC를 구현 가능한지 궁금해서 여쭤봅니다. [2] 2111
553 PECVD 공정 진행중 chamber wall 부분에서 보이는 plasma instability 관련 질문 드립니다. [1] 1188
552 안녕하세요. 교수님 ICP관련하여 문의드립니다. [2] 2006
551 접착력을 위한 플라즈마 처리 관련 질문입니다 [1] 434
» 전극에 따른 힘의 크기 질문드립니다. [1] file 1122
549 챔버내 Arcing 발생 개선안에 대해 질문드립니다. [2] 1703
548 Vacuum Chamber(Etching) 내에서 열의 이동과 Byproduct 이동과의 관계. [2] 632
547 플라즈마 PIC 질문드립니다. [1] 10207
546 [RIE] reactive, non-reactive ion의 역할 [1] 999
545 O2 Asher o-ring 문의드립니다. [1] 555
544 진공장치 챔버내 산소 또는 수분 제거 방법에 대해 [1] 1381
543 자외선 세기와 결합에너지에 대해 질문드립니다. [1] 307
542 Dry etch 할때 센터와 사이드 etch rate [1] 1228
541 플라즈마 입자 운동 원리(전자기장에서) [1] 692
540 CCP/ICP 의 플라즈마 밀도/균일도 에 대해서 질문이 있습니다. [3] 2059
539 플라즈마 살균 방식 [2] 10713

Boards


XE Login