안녕하세요 반도체 장비회사에서 이제 막 배우기 시작한 신입사원입니다.

평소에 홈페이지에서 도움을 많이 얻었지만 학습 중 궁금한게 있어 여쭤봅니다.


제목 그대로 Edge Ring 없이 ESC를 구현 가능한지 궁금해서 글 남깁니다.


Edge Ring을 사용하는 이유가 Wafer Edge에서 형성되는 Sheath Region의 영향을 받아 Ion의 방향성이 수직으로 입사하지 않고 틀어진다고 알고있습니다.

그렇다면 Chamber 상부의 전극을 Control 하여 Wafer Edge에서 Ion 방향성 제어를 한다면 Edge Ring 없이 구현 가능하지 않을까 해서 글 남깁니다.

인터넷에 수없이 찾아봤지만 Edge Ring 없이 구현하는 ESC 관련 자료는 없기에 불가능 할것 같긴 합니다.

Edge Ring을 사용하는 이유가 위의 이유 이외에 다른것이 있는 것인지도 궁금합니다.



1. 상부 전극을 제어하여 Wafer Edge 부분에서 Ion 방향성을 제어한다면 Edge Ring 없이 구현가능한지 궁금합니다.


2. 위에 언급한 이유 외에 Edge Ring을 사용하는 다른 이유가 혹시 존재하는지 궁금합니다.


너무 두서없이 질문한것 같아 죄송합니다. 감사합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [265] 76539
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20076
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57115
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68613
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 91695
563 플라즈마볼 제작시 [1] file 2214
562 안녕하십니까 파워업체 연구원 입니다. (챔버쪽 임피던스 검출) [1] file 2565
561 Bais 인가 Cable 위치 관련 문의 [1] 542
560 Etcher Chamber Wall에 의도적으로 Polymer를 증착시키고 싶습니다. [2] 3308
559 좁은 간격 CCP 전원의 플라즈마 분포 논문에 대해 궁금한 점이 있습니다. [2] 16645
558 알고싶습니다 [1] 1438
557 교수님 안녕하세요, icp 관련 질문이 있습니다. [2] 2289
556 Shield 및 housing은 ground 와 floating 중 어떤게 더 좋은지요 [2] 925
555 안녕하세요 OLED 증착 시 궁금한점이있어 문의드립니다 [2] 745
» Edge ring 없이 ESC를 구현 가능한지 궁금해서 여쭤봅니다. [2] 2805
553 PECVD 공정 진행중 chamber wall 부분에서 보이는 plasma instability 관련 질문 드립니다. [1] 1437
552 안녕하세요. 교수님 ICP관련하여 문의드립니다. [2] 2451
551 접착력을 위한 플라즈마 처리 관련 질문입니다 [1] 672
550 전극에 따른 힘의 크기 질문드립니다. [1] file 1587
549 챔버내 Arcing 발생 개선안에 대해 질문드립니다. [2] 4361
548 Vacuum Chamber(Etching) 내에서 열의 이동과 Byproduct 이동과의 관계. [2] 1107
547 플라즈마 PIC 질문드립니다. [1] 10370
546 [RIE] reactive, non-reactive ion의 역할 [1] 2387
545 O2 Asher o-ring 문의드립니다. [1] 878
544 진공장치 챔버내 산소 또는 수분 제거 방법에 대해 [1] 3672

Boards


XE Login