안녕하십니까 현재 MF(400kHz) 파워를 개발중에 있는 연구원입니다. 

 

RPG 파워를 개발중에 있습니다. 

개발품으로는 RPG에서 챔버의 유량 (GAS)에 따른 출력이 변화하며 제어 되어야 하는데, 

검출로는  FWD_P, REF_P만을 사용하려 합니다. 

이 두가지 팩터로, 챔버의 임피던스 변화량을 추정 할 수 있는지 궁금합니다. 

 

만약 방법이 있다면 알려주시면 감사하겠습니다. 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [329] 98240
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 23856
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 60537
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 72406
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 103107
572 플라즈마 기술관련 문의 드립니다 [나노 분말 생성 및 제어 연구] [1] 6582
571 ECR ion source에서 plasma가 켜지면 RF reflect가 심해집니다. [ECRiS] [2] 1023
570 Interlock 화면.mag overtemp의 의미 701
569 플라즈마를 이용한 오존 발생기 개발 문의 件 [오존발생기] [1] 1184
568 연속 plasma 방전시 RF power drop 및 Reflect 발생 [Cleaning procedure 플라즈마 공정진단 기술] [1] 1878
567 O2 etch 후 polymer 변성에 관한 문의 file 1324
566 ESC Chuck 기능이 Wafer 위에서의 Chemical Bond 생성을 boosting 할 수 있는지 궁금합니다. [ESC, 쉬스 전기장 및 bias 전력 조절] [1] 6140
565 연면거리에 대해 궁금합니다. [아크 제어] [1] 1111
564 압력 변화와 Ch Impedance 상관관계 질문 [플라즈마 임피던스, 운전압력조절 방전 조건] [1] 1995
563 플라즈마볼 제작시 [전기장 형성 및 플라즈마 방전] [1] file 2562
» 안녕하십니까 파워업체 연구원 입니다.(챔버쪽 임피던스 검출) [플라즈마 특성과 장비 임피던스] [1] file 2831
561 Bias인가 Cable 위치 관련 문의 [플라즈마 분포 관찰] [1] 713
560 Etcher Chamber Wall에 의도적으로 Polymer를 증착시키고 싶습니다. [ONO 공정 중 질화막 모니터링] [2] 3563
559 좁은 간격 CCP 전원의 플라즈마 분포 논문에 대해 궁금한 점이 있습니다. [전력 인가와 플라즈마 밀도] [2] 16948
558 알고싶습니다 [Seasoning, 플라즈마 공정 및 부품 표면 특성 데이터] [1] 1790
557 교수님 안녕하세요, icp 관련 질문이 있습니다. [Self bias 및 ICP E/H mode] [2] 2649
556 Shield 및 housing은 ground와 floating중 어떤게 더 좋은지요 [장비 ground] [2] 1318
555 안녕하세요 OLED 증착 시 궁금한점이있어 문의드립니다. [플라즈마 확산 시간 및 표면 반응 시간 유지] [2] 1013
554 Edge ring 없이 ESC를 구현 가능한지 궁금해서 여쭤봅니다. [웨이퍼 근방 쉬스 특성, Edge ring] [2] 3143
553 접착력을 위한 플라즈마 처리 관련 질문입니다. [플라즈마 소스 변경] [1] 1613

Boards


XE Login