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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 72306
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832 PEALD 챔버 세정법 [1] 44
831 RF BIAS REDLECT POWER HUNTING 문제 [1] 110
830 RF ROD 연결부 부하로 인한 SHUNT, SERIES 열화 [2] file 144
829 HF와 LF중 LF REFLECT POWER가 커지는 현상에 대해서 도움이 필요합니다. [2] 225
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827 CCP 장비 하부 전극 dc 펄스 전력 [1] 248
826 DC Arc Plasma Torch 관련 문의 [1] 193
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823 ESC 사용 공정에서 Dummy Wafer Chuck Force 에 대해서 궁급합니다 [1] 606
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821 ICP 장비 TCP Reflect 발생 간 조언 부탁드립니다. [1] 404
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819 챔버의 Plasma density 확인방법 문의드립니다. [플라즈마 모니터링, OES, LP] [1] 644
818 ICP/CCP 플라즈마 식각 공정 개발 [Plasma sheath 및 Plasma generation] [1] 765
817 HF PLASMA DEPOSITION 시 POWER에 따른 DEP RATE 변화 [장비 플라즈마, Rate constant] [1] 401
816 인가전압과 ESC의 관계 질문 [Floating sheath] [1] 490
815 Dielectric Etcher(CCP)에서 사용하는 주파수 [Plasma frequency 및 RF sheath] [2] 578
814 ICP에서 biasing 질문 [RF sheath와 self bias] [1] 538
813 가스 조성 및 온도에 따른 식각률 관련 질문입니다. [Arrhenius equation 이해] [1] 393
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