Others 연면거리에 대해 궁금합니다.

2020.10.13 15:31

김민수 조회 수:569

안녕하세요. 교수님

저는 하단에 13.56Mhz RF Bias 와 상부의 MW를 통한 2중 Plasma 생성 구조를 가진 Etcher 장비 챔버를 연구하고있습니다.

현 질문의 배경에는 단순하게 척을 감싸는 세라믹의 두께를 증가시켰더니 아킹발생 정도가 줄어든 것인데요.

저는 이걸 연면거리와 관계있다고 생각하는데 몇일 째 확실한 답안을 도출 못해 도움을 요청드립니다.

구글링해본 결과로는 연면거리의 parameter는 가동 전압, 오염도, 격리 유형, 절연물질 저항 등등 다양한 요소가 있는 것 같습니다.

그런데 조절한 값은 세라믹 두께이니 절연물질의 저항? 이 올라간거라고 생각합니다.

근데 이거에 대한 관련 식을 찾아볼 수 도 없었고, 영향력을 수치로써 표현하기가 너무 어렵습니다. 그리고 실제 세라믹 두께 증가로 인한 연면거리 증가가 아킹발생 정도 저하에 실제로 영향을 끼쳤을 지도 확신이 서질 않습니다.

두께값등 구체적인 수치를 나열하기는 양도 많아지고 하여 적지는 않겠지만 교수님이 가지고 계신 개인적인 경험 이야기가 궁금합니다..

답변주시길 기다리고 있겠습니다.

감사합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [131] 5626
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 16925
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 51354
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 64230
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 84395
573 엘립소미터 측정관련해서 질문이 있습니다. [1] 621
572 플라즈마 기술관련 문의 드립니다 [1] 6315
571 ECR ion source에서 plasma가 켜지면 RF reflect가 심해집니다. [2] 568
570 Interlock 화면.mag overtemp의 의미 442
569 플라즈마를 이용한 오존 발생기 개발 문의 件 [1] 835
568 연속 plasma 방전시 RF power drop 및 Reflect 발생 [1] 870
567 O2 etch 후 polymer 변성에 관한 문의 file 819
566 ESC Chuck 기능이 Wafer 위에서의 Chemical Bond 생성을 boosting 할 수 있는지 궁금합니다. [1] 4630
» 연면거리에 대해 궁금합니다. [1] 569
564 압력 변화와 Ch Impedance 상관관계 질문 [1] 1303
563 플라즈마볼 제작시 [1] file 1936
562 안녕하십니까 파워업체 연구원 입니다. (챔버쪽 임피던스 검출) [1] file 2194
561 Bais 인가 Cable 위치 관련 문의 [1] 434
560 Etcher Chamber Wall에 의도적으로 Polymer를 증착시키고 싶습니다. [2] 3029
559 좁은 간격 CCP 전원의 플라즈마 분포 논문에 대해 궁금한 점이 있습니다. [2] 16157
558 알고싶습니다 [1] 746
557 교수님 안녕하세요, icp 관련 질문이 있습니다. [2] 1716
556 Shield 및 housing은 ground 와 floating 중 어떤게 더 좋은지요 [2] 440
555 안녕하세요 OLED 증착 시 궁금한점이있어 문의드립니다 [2] 489
554 Edge ring 없이 ESC를 구현 가능한지 궁금해서 여쭤봅니다. [2] 2208

Boards


XE Login