교수님, 안녕하세요.


반도체 회사에서 공정 개발을 하는 연구원입니다.

교수님께 ESC Chuck 의 활용(?) 에 관한 질문을 드리고자 글 남기게 되었습니다.


현재 ICP Coil 을 이용하여 reactant gas 를 radical 로 만들어서 wafer 위에서 반응을 유도하고 있습니다.

하지만, 현재 chamber 조건이 공정상 몇 가지 단점을 갖고 있어 이를 개선하려는 업무를 진행 중 의문이 생겼습니다.

개선을 위한 condition (온도, 압력) 에서는 화학흡착 즉, chemisorpsion 이 되지 않는 결과를 확인하였습니다.

(온도, 압력만 변화. 관련 논문도 확인)


이를 극복하는 방안으로, ESC Chuck 을 사용하여, radical 을 강하게 wafer 로 끌어오면 어떨가 하는데,

가장 큰 고민이, boosted radical 이 wafer 에서 물리적 가속외에 화학적 흡착에도 영향을 줄 수 있다는 근거를 찾기가 어렵습니다.


혹, 교수님께서 관련해서 조언해주실 수 있으시면 업무에 큰 도움이 될 것 같습니다.


감사합니다.


번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [113] 4953
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 16319
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 51258
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 63781
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [2] 83586
578 타겟 임피던스 값과 균일도 문제 [1] 277
577 압력과 플라즈마 크기의 관계가 궁금합니다. [1] 17013
576 Plasma arcing 관련하여 문의드립니다. [1] 691
575 Load position 관련 질문 드립니다. [2] 1884
574 Fluoride 스퍼터링 시 안전과 관련되어 질문 [1] 291
573 엘립소미터 측정관련해서 질문이 있습니다. [1] 532
572 플라즈마 기술관련 문의 드립니다 [1] 6288
571 ECR ion source에서 plasma가 켜지면 RF reflect가 심해집니다. [2] 534
570 Interlock 화면.mag overtemp의 의미 420
569 플라즈마를 이용한 오존 발생기 개발 문의 件 [1] 822
568 연속 plasma 방전시 RF power drop 및 Reflect 발생 [1] 818
567 O2 etch 후 polymer 변성에 관한 문의 file 754
» ESC Chuck 기능이 Wafer 위에서의 Chemical Bond 생성을 boosting 할 수 있는지 궁금합니다. [1] 4481
565 연면거리에 대해 궁금합니다. [1] 536
564 압력 변화와 Ch Impedance 상관관계 질문 [1] 1253
563 플라즈마볼 제작시 [1] file 1896
562 안녕하십니까 파워업체 연구원 입니다. (챔버쪽 임피던스 검출) [1] file 2134
561 Bais 인가 Cable 위치 관련 문의 [1] 419
560 Etcher Chamber Wall에 의도적으로 Polymer를 증착시키고 싶습니다. [2] 2979

Boards


XE Login