|
공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
[338]
| 229793 |
|
공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
| 66145 |
|
공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
| 103221 |
|
공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
| 115349 |
|
공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
[3]
| 197211 |
|
838 |
RF Power와 MFP의 관계
[1] | 437 |
|
837 |
Dual frequency CCP에 대해 질문 드립니다.
[1] | 1266 |
|
836 |
OES Actinometry 측정 방법
[1] | 2009 |
|
835 |
OES를 통한 Radical 생성량 트렌드 파악
[1] | 4009 |
|
834 |
[Update] Shower Head의 구멍이 일부 막힌 Case의 출력
[1] | 4087 |
|
833 |
Ar Plasma로 AlN Pedestal 표면에 AlFx desorption 가능 여부가 궁금합니다.
[1] | 2970 |
|
832 |
PEALD 챔버 세정법
[1] | 3233 |
|
831 |
RF BIAS REDLECT POWER HUNTING 문제
[1] | 3264 |
|
830 |
RF ROD 연결부 부하로 인한 SHUNT, SERIES 열화
[2]  | 4156 |
|
829 |
HF와 LF중 LF REFLECT POWER가 커지는 현상에 대해서 도움이 필요합니다.
[2] | 4860 |
|
828 |
III-V 반도체 에칭 공정 문의
[1] | 4354 |
|
827 |
CCP 장비 하부 전극 dc 펄스 전력
[1] | 3328 |
|
826 |
DC Arc Plasma Torch 관련 문의
[1] | 3234 |
|
825 |
Wafer 영역별 E/R 차이에 대한 질문 [Gas flow system vs E/R]
[1] | 4354 |
|
824 |
동일한 RF방전챔버에서 화학종별 이온화율에 대한 질문
[1] | 3919 |
|
823 |
ESC 사용 공정에서 Dummy Wafer Chuck Force 에 대해서 궁급합니다
[1] | 4441 |
|
822 |
liquid plasma 공부 방향에 대해서 알고싶습니다.
[1] | 4107 |
|
821 |
ICP 장비 TCP Reflect 발생 간 조언 부탁드립니다.
[1] | 4644 |
|
820 |
RF플라즈마에서 quasineutral에 대해 궁금한게 있어 질문글 올립니다.[quasineutral]
[1] | 3278 |
|
819 |
챔버의 Plasma density 확인방법 문의드립니다. [플라즈마 모니터링, OES, LP]
[1] | 4316 |
