햇빛이 거울에 반사되는 이유를 생각해 보면 좋겠군요. 플라즈마는 매우 훌륭한 도체이며, 반사파가 커진다는 의미는 높은 밀도의 플라즈마가 만들어졌다는 의미가 되겠고, 전자기 파의 침투 깊이는 매우 제한되었다는 의미입니다. 따라서 전자기 파를 인가해서 플라즈마를 생성할 때 발생하는 필연적인 문제입니다.

이로서 발생하는 입력파의 외곡을 조절하는 방법으로 impedance matcher의 조절 knob을 사용합니다. 고주파 (MHz) order 에서는 cap / inductor로 구성된 전기 소자를 이용해서 matching을 합니다.

MW에서는 tuner에 파형을 조절하는 knob 이 있어서 도파관에 형성된 정상파의 파형을 조절함으로서 match 조건을 찾게 됩니다. 혹시 Knob 없이 고정된 도파관을 사용하는 경우라면 생성 플라즈마 조건과 분포를 미리 에상해서 정형화된 도파관을 사용하고 있을 것으로 기대하나, 방전 개시에 많이 힘이 들 수 있습니다. 따라서 도파관에 설치된 knob을 잘 조절해 보시고, 도파관 내부 표면 변화, 결합부 변화 및 방전 가스 변화등이 있는 경우도 match가 어렵게 되는 조건이 될 수 있으니 점검이 필요하겠습니다. (ECRiS 관련 참고 서적을 추천합니다).