이제 막 Plasma라는 것에 첫발을 딛은 직장 입니다. 

 

주파수는 13.56Mhz 사용 중입니다. 

 

공정 Power가 500W -> 1000W로 올렸더니 Load position이 내려 갔습니다. 

 

RF power가 상향되면 Load position이 내려가는 이유를 잘 모르겠습니다. (기계공학전공입니다.)

 

Load position이 내려가는 이유를 알려주실수 있을까요? 

 

감사합니다. 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [329] 100208
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 24182
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 60807
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 72779
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 104308
592 low pressure영역에서 아킹이 더 쉽게 발생하는 이유에 관해 문의드립니다. [파센 커브와 글로우 방전] [1] 1704
591 안녕하세요? 임피던스 매칭관련 질문드립니다. [회로인자 및 구동기구, 플라즈마 특성] [1] 2995
590 electron energy distribution에 대해서 질문드립니다. [Maxwallian EEDF] [2] 3684
589 안녕하세요 플라즈마의 원초적인 개념에서 궁금한 점이 생겨서 질문드립니다. [DC glow discharge] [1] 1147
588 플라즈마 에칭과 표면처리의 차이점 질문드립니다. [Cleaning, sputter etching, RIE] [1] 2371
587 RIE에서 O2역할이 궁금합니다 [충돌 반응 rate constant] [4] 5134
586 플라즈마 챔버 [화학반응 및 내열조건] [2] 1647
585 Decoupled Plasma 관련 질문입니다.[플라즈마 내 입자의 거동] [1] 1364
584 플라즈마 임피던스와 Vpp가 관련이 있나요? [플라즈마 주파수와 Vpp, sheath] [1] 4305
583 플라즈마 용어 질문드립니다. [Self bias] [1] 1057
582 안녕하세요 교수님. ICP관련하여 문의드립니다. [Faraday shield] [1] 1948
581 ICP-RIE etch에 관해서 여쭤볼것이 있습니다. [He 혼합비와 플라즈마 밀도] [1] 1844
580 플라즈마 이용 metal residue 제거방법 문의드립니다. [세정 공정 개발] [1] 1216
579 RF 반사파와 이물과의 관계 [Physical/chemical cleaning] [1] 1423
578 타겟 임피던스 값과 균일도 문제 [플라즈마 확산] [1] 571
577 압력과 플라즈마 크기의 관계가 궁금합니다. [Mean free path] [1] 29448
576 Plasma arcing 관련하여 문의드립니다. [플라즈마 내 전자 축적] [1] 1833
» Load position관련 질문 드립니다. [Impedance matching] [1] 2854
574 Floride 스퍼터링 시 안전과 관련되어 질문 [Sputter setup 및 구동 원리] [1] 718

Boards


XE Login