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[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
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Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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Dry Etch장비에서 Vdc와 Etch rate관계
[1] | 22801 |
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[질문] Plasma density 측정 방법
[1] | 22709 |
720 |
pulse plasma 측정을 위한 Langmuir probe 사용 방법 관련..
[1] | 22641 |
719 |
Peak RF Voltage의 의미
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718 |
MATCHING NETWORK 에서 BACKWARD BIAS 가 생성되는 이유가 무엇 입니까?
[3] | 22585 |
717 |
Dry Etcher 에 대한 교재
[1] | 22560 |
716 |
remote plasma에 대해 설명좀 부탁드립니다.
[1] | 22273 |
715 |
Dry Etcher 내 reflect 현상
[2] | 22264 |
714 |
질문있습니다 교수님
[1] | 22213 |
713 |
플라즈마의 발생과 ICP
| 22162 |
712 |
플라즈마 코팅에 관하여
| 22104 |
711 |
플라즈마 온도 질문 + 충돌 단면적
| 22013 |
710 |
펄스바이어스 스퍼터링 답변
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709 |
플라즈마내의 전자 속도
[1] | 21931 |
708 |
glass 기판 ICP 에서 Vdc 전압
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707 |
manetically enhanced plasmas
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706 |
스퍼터링시 시편두께와 박막두께
[1] | 21633 |
705 |
ccp-icp
| 21566 |
704 |
대기압플라즈마를 이용한 세정장치
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703 |
F/S (Faraday Shield)
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