Plasma in general 플라즈마 용어 질문드립니다
2021.03.08 23:32
플라즈마 관련 기기 ETCH 장비군에 일하는 사원입니다
이번에 해당 직군으로 부서이동하여 플라즈마에 관해 잘 몰랐는데 여기서 많은 정보 얻고 있습니다
정말 감사드립니다
다름이 아니고 기본 용어인 VDC, VPP의 개념이 잘 이해가 안됩니다
둘 다 RF에 의해 발생하는 파장(?)으로 이해되고 있는데
해당 용어에 대한 설명 좀 부탁드립니다
해당 용어로 질문방에 검색해 가면서 이해하려 해도 기초지식이 부족한지 잘 이해가 안됩니다
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본 란에서 self bias 주제어로 검색해 보시기 바랍니다. 참고하실 점은 플라즈마는 전원에서 전자가 에너지를 받아서 가스 상태의 입자들이 이온화된 상태, 즉 무거운 (원자핵)의 이온과 가벼운 전자 (약 수천배 가볍습니다)가 공정 가스 및 라디컬과 섞여 있는 상태를 상상하면 좋습니다. 전기장은 전하의 거동을 지배하므로 이온과 전자는 전기장 방향으로 거동하고 이들의 거동 차이가 하전되는 크기 차를 유발하게 되는 것으로, 플라즈마 상태 내에서 유전체 표면의 하전 현상으로 나타나는 표면 전위를 self bias 라 합니다 dc off 전압 이라도고 합니다. 여기서 파장은 전압 변동의 빠르기 이니 이온 거동 기준 (주파수=이온 플라즈마 주파수)와 전자 거동 기준 (플라즈마 전자 주파수)를 기준으로 삼아 판단할 수가 있습니다. 따라서 RF 주파수와 관계 되면 이를 지배하는 주체는 플라즈마 밀도가 됩니다.