안녕하세요. 카이스트에서 석사 1년차로 있는 대학원생입니다.

 

Single probe로 electron energy probability distribution을 구할 때, low energy electron은 bulk plasma에서 평형 상태에 도달한 전자들을 지칭하고 high energy electron은 cathode에서 방출되고 probe sheath를 통해 bulk plasma로 가속되는 전자들을 지칭하는 것으로 알고 있습니다.

 

이 두 그룹의 전자들을 구분할 수 있는 식이 따로 있는지 궁금합니다. 실험을 통해 얻은 EEPF에서 몇 eV부터 몇 eV까지는 low energy electrons이고 몇 eV부터 몇 eV까지는 high electrons이다 라는 형태의 답을 얻고 싶습니다.

 

감사합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [329] 98701
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 23941
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 60600
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 72503
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 103373
591 안녕하세요? 임피던스 매칭관련 질문드립니다. [회로인자 및 구동기구, 플라즈마 특성] [1] 2981
» electron energy distribution에 대해서 질문드립니다. [Maxwallian EEDF] [2] 3673
589 안녕하세요 플라즈마의 원초적인 개념에서 궁금한 점이 생겨서 질문드립니다. [DC glow discharge] [1] 1140
588 플라즈마 에칭과 표면처리의 차이점 질문드립니다. [Cleaning, sputter etching, RIE] [1] 2357
587 RIE에서 O2역할이 궁금합니다 [충돌 반응 rate constant] [4] 5102
586 플라즈마 챔버 [화학반응 및 내열조건] [2] 1628
585 Decoupled Plasma 관련 질문입니다.[플라즈마 내 입자의 거동] [1] 1355
584 플라즈마 임피던스와 Vpp가 관련이 있나요? [플라즈마 주파수와 Vpp, sheath] [1] 4282
583 플라즈마 용어 질문드립니다. [Self bias] [1] 1035
582 안녕하세요 교수님. ICP관련하여 문의드립니다. [Faraday shield] [1] 1939
581 ICP-RIE etch에 관해서 여쭤볼것이 있습니다. [He 혼합비와 플라즈마 밀도] [1] 1836
580 플라즈마 이용 metal residue 제거방법 문의드립니다. [세정 공정 개발] [1] 1207
579 RF 반사파와 이물과의 관계 [Physical/chemical cleaning] [1] 1412
578 타겟 임피던스 값과 균일도 문제 [플라즈마 확산] [1] 566
577 압력과 플라즈마 크기의 관계가 궁금합니다. [Mean free path] [1] 29428
576 Plasma arcing 관련하여 문의드립니다. [플라즈마 내 전자 축적] [1] 1813
575 Load position관련 질문 드립니다. [Impedance matching] [1] 2847
574 Floride 스퍼터링 시 안전과 관련되어 질문 [Sputter setup 및 구동 원리] [1] 707
573 엘립소미터 측정관련해서 질문이 있습니다. [나노광전자 데이터 분석] [1] 1530

Boards


XE Login