안녕하세요. 카이스트에서 석사 1년차로 있는 대학원생입니다.

 

Single probe로 electron energy probability distribution을 구할 때, low energy electron은 bulk plasma에서 평형 상태에 도달한 전자들을 지칭하고 high energy electron은 cathode에서 방출되고 probe sheath를 통해 bulk plasma로 가속되는 전자들을 지칭하는 것으로 알고 있습니다.

 

이 두 그룹의 전자들을 구분할 수 있는 식이 따로 있는지 궁금합니다. 실험을 통해 얻은 EEPF에서 몇 eV부터 몇 eV까지는 low energy electrons이고 몇 eV부터 몇 eV까지는 high electrons이다 라는 형태의 답을 얻고 싶습니다.

 

감사합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [330] 102081
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 24544
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 61190
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 73242
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 105459
733 RF 스퍼터 관련 질문이 있습니다. [장비 분해 리빌트 및 테스트] [1] 555
732 반사파와 유,무효전력 관련 질문 [플라즈마 생성과 가열] [2] 626
731 GWP(Global warming potential)에 따른 Etch gas 변화에 대한 질문 [1] 995
730 N2 GAS를 이용한 Plasma에 대한 질문 [질소 플라즈마] [1] 982
729 Plasma 표면 개질에 대해 질문드립니다. [O2 플라즈마와 Ar 플라즈마] [1] 4240
728 PECVD 고온 공정에서 증착 막으로의 열전달 관련 문의 드립니다. [플라즈마 분포와 확산] [1] 762
727 Sheath와 Plasma Bulk에 걸리는 전압 관련 문의 [Sheath impedance] [1] 933
726 chamber에 인가되는 forward power 관련 문의 [송전선로 모델 및 전원의 특성] [1] 534
725 반도체 METAL ETCH시 CH4 GAS의 역할 [플라즈마 식각기술] [1] 1196
724 Plasma Reflect를 관리하는 방법이 있을까요? [임피던스 매칭] [1] 1188
723 애칭 후 부산물의 양을 알고 싶습니다. [Materials processing] [1] 634
722 화장품 원료의 플라즈마 처리 문의 [환경 플라즈마] [1] file 397
721 Lxcat dataset에 따른 Plasma discharge에 대한 질문입니다. [CX 데이터] [1] 336
720 플라즈마 공정 후, 친수성으로 변한 표면의 친수성 제거 [공정 조절과 CF4 계열 플라즈마] [1] 652
719 Compressive한 Wafer에 대한 질문 [박막] [1] 453
718 [재질문]에칭에 필요한 플라즈마 가스 [플라즈마 식각기술] [1] 1029
717 ICP VIPOLAR ESC 관련 이론과 Chuck Force 계산 질문드립니다 [Plasma breakdown 및 생성] [1] file 1484
716 Ashing 공정에 필요한 O2plasma에 대해 궁금한 점이 있습니다. [전자 충돌 이온화 반응 해리 반응 흡착 반응] [1] 2891
715 메틸기의 플라즈마 에칭반응 메커니즘 [공정 플라즈마] [1] 695
714 안녕하세요 CLEAN GAS 관련 질문이 있습니다. [플라즈마 이온화 및 해리 반응, 반응기 벽면 세정] [1] 899

Boards


XE Login