안녕하세요. 플라즈마응용연구실 관라자입니다.

 

금일부터 QnA 글을 작성하기 위해 등업제도를 일부 이용합니다.

 

해당 공지 게시글에 가입 인사를 적어주시면 QnA 글을 쓸 수 있는 권한을 받게 됩니다.

(*별도의 권한 처리 없이 댓글 등록시 바로 QnA 작성이 가능해집니다.)

 

글 작성 전에 반드시 댓글을 남겨주시고 QnA 글을 작성해주시기 바랍니다.

 

감사합니다.

 

** 기존에 글을 작성하셨던 분들도 권한 처리가 필요하므로 간단하게라도 댓글 부탁드립니다.

번호 제목 조회 수
» [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [337] 109855
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 27188
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 64346
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 76131
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 110197
715 메틸기의 플라즈마 에칭반응 메커니즘 [공정 플라즈마] [1] 823
714 안녕하세요 CLEAN GAS 관련 질문이 있습니다. [플라즈마 이온화 및 해리 반응, 반응기 벽면 세정] [1] 1055
713 RIE 식각공정중 발생하는 가스를 예측할 수 있는 메커니즘에 대해 질문하고 싶습니다. [플라즈마-화학-표면 반응 모델] [1] 710
712 corona model에 대한 질문입니다. [준중성과 저압플라즈마] [1] 422
711 플라즈마 제균 탈취 가능 여부 [대기압 환경 플라즈마와 라디컬 분포] [1] 536
710 plasma 공정 중 색변화 [플라즈마 진단과 분광학] [1] 1453
709 ISD OES파형 관련하여 질문드립니다. [SiC 식각과 Ring 교체 주기 및 모니터링 방법] [1] 957
708 PEALD장비에 관해서 질문드리고 싶습니다. [장비 세정 및 관리 규칙] [1] 919
707 ICP Dry Etch 설비 DC bias Hunting 관련 질문드립니다. [RF 접지 및 체결, 결합부분 교체] [1] 1263
706 E-field plasma simulation correlating with film growth profile [플라즈마 확산과 밀도 분포] [1] 622
705 SI 표면에 Ar Plasma Etching 하면 안되는 이유 [표면 전처리] [1] 1920
704 OES를 통한 공정 개선사례가 있는지 궁금합니다. [플라즈마의 분포와 공정 진단] [1] 1071
703 self bias [쉬스와 표면 전위] [1] 880
702 Self bias 내용 질문입니다. [쉬스와 표면 전위] [1] 1357
701 경전척의 chucking voltage 범위가 궁금합니다. [1] 1202
700 챔버 시즈닝에 대한 플라즈마의 영향성 [플라즈마 생성, Plasma collision reaction] [1] 913
699 PECVD Cleaning에서 Ar Gas의 역활 [Ar plasma, Ar metastable] [1] 2085
698 텅스텐 Plasma Cleaning 효율 불량 [Plasma Cleaning] [1] 669
697 ICP lower power 와 RF bias [Self bias, Floating sheath] [1] 2137
696 CCP RIE 플라즈마 밀도 [Global model, Plasma generation, Ionization collision] [1] 1009

Boards


XE Login