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플라즈마를 이용한 반도체 공정의 균일도에 관련한 모든 게시물을 보며 많은 도움을 받았습니다.

RF Power는 플라즈마 분포 균일성 및 공정 균일도에 영향을 미치지 않는 것인지 궁금하여 질문드립니다. (CCP-RIE, PECVD)

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