질문 감사합니다. Set 값을 사용하는 것은 matching 속도를 높이기 위함이며, 이 값은 공정 장치 및 공정 조건 (공정 타킷)에 따라서 최적값을 찾아 쓰게 됩니다. 엔지니어에게 중요한 것은 이 값을 어떻게 찾았고, 찾은 값의 의미가 뭔지? 그래야 후속 및 신공정 개발을 수월히 수행하실 수 있으실 것입니다. RF 전력이 매칭을 하는 이유는 RF 전원 전력을 플라즈마 생성에 효과적으로 전달하기 위함인데, 플라즈마는  생성과 확산 및 안정화까지의 동특성을 갖지며, 플라즈마 내의 전자와 이온이 RF 에 대해서 서로 다른 전기적 거동을 함으로써 플라즈마 임피던스가 다이나믹하게 바뀝니다. 따라서 matcher는 전력이 인가되는 순간부터 변하고 있는 load 에 대응하는 능력, 즉 빠르게 대응을 할 수록 플라즈마 생성으로 안정적인 RF가 공급되게 됩니다. 따라서 그 추적 범위를 좁히면 보다 짧은 시간에 안정적인 플라즈마를 형성시킬 수가 있겠습니다. 이 생각을 가지시고, 본 게시판에 여러번 진행된 매처 설명과 Load/tune 계산 등에 대해서 살펴 보시기 바랍니다. ICP 장치와의 matcher의 전기 부품이 다름을 확인도 해 보시고, 사용하시는 matcher 의 정보에 대해서도 제공한 회사에서 상세한 스펙 및 부품의 스펙 등에 대해서도 정보를 갖고 계시면 좋습니다.