Matcher RF 케이블 발열 현상관련 문의 드립니다.

2021.07.05 14:38

카마 조회 수:1656

안녕하세요. 에칭 장비 Eng'r로 근무중에 있습니다.

한가지 문의 사항이 있어서 이렇게 글을 작성하게 되었습니다.

 

Matcher에 연결되어 있는 60Mhz RF 케이블에서 발열현상이 나타나고 있습니다.

 -> 케이블 피복 온도가 70도 이상 상승.

RF 케이블의 발열 현상이 정상적인 현상인지 아니 설계적 약점이나 매칭 불안정에서 

나타나는 현상인지 궁금해서 문의드립니다.

그리고 케이블 발열 현상이 어떤 문제가 발생될수 있는지 문의 드립니다.

감사합니다.

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [330] 102065
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 24541
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 61187
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 73234
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 105446
733 RF 스퍼터 관련 질문이 있습니다. [장비 분해 리빌트 및 테스트] [1] 555
732 반사파와 유,무효전력 관련 질문 [플라즈마 생성과 가열] [2] 626
731 GWP(Global warming potential)에 따른 Etch gas 변화에 대한 질문 [1] 995
730 N2 GAS를 이용한 Plasma에 대한 질문 [질소 플라즈마] [1] 982
729 Plasma 표면 개질에 대해 질문드립니다. [O2 플라즈마와 Ar 플라즈마] [1] 4236
728 PECVD 고온 공정에서 증착 막으로의 열전달 관련 문의 드립니다. [플라즈마 분포와 확산] [1] 762
727 Sheath와 Plasma Bulk에 걸리는 전압 관련 문의 [Sheath impedance] [1] 931
726 chamber에 인가되는 forward power 관련 문의 [송전선로 모델 및 전원의 특성] [1] 534
725 반도체 METAL ETCH시 CH4 GAS의 역할 [플라즈마 식각기술] [1] 1196
724 Plasma Reflect를 관리하는 방법이 있을까요? [임피던스 매칭] [1] 1187
723 애칭 후 부산물의 양을 알고 싶습니다. [Materials processing] [1] 634
722 화장품 원료의 플라즈마 처리 문의 [환경 플라즈마] [1] file 397
721 Lxcat dataset에 따른 Plasma discharge에 대한 질문입니다. [CX 데이터] [1] 336
720 플라즈마 공정 후, 친수성으로 변한 표면의 친수성 제거 [공정 조절과 CF4 계열 플라즈마] [1] 651
719 Compressive한 Wafer에 대한 질문 [박막] [1] 453
718 [재질문]에칭에 필요한 플라즈마 가스 [플라즈마 식각기술] [1] 1027
717 ICP VIPOLAR ESC 관련 이론과 Chuck Force 계산 질문드립니다 [Plasma breakdown 및 생성] [1] file 1482
716 Ashing 공정에 필요한 O2plasma에 대해 궁금한 점이 있습니다. [전자 충돌 이온화 반응 해리 반응 흡착 반응] [1] 2887
715 메틸기의 플라즈마 에칭반응 메커니즘 [공정 플라즈마] [1] 695
714 안녕하세요 CLEAN GAS 관련 질문이 있습니다. [플라즈마 이온화 및 해리 반응, 반응기 벽면 세정] [1] 899
쓰기
태그

Boards

XE Login