Plasma in general 데포 중 RF VDC DROP 현상
2021.07.29 15:44
안녕하세요 반도체회사 장비 엔지니어입니다.
박막 과정 데포 중 RF VDC가 드랍 되는 현상이 있습니다. GAS양, CH 내 PRESSURE, 등등 변하는 것이 없는데 왜 갑자기 DROP 되는 걸까요?
영향을 줄만한 인자가 어떤 것이 있을까요? 장비를 잘 쓰다가 갑자기 DROP이 일어나고 그 이후는 다시 올라 오지 않습니다 ㅠ
| 번호 | 제목 | 조회 수 |
|---|---|---|
| 공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [282] | 77208 |
| 공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20465 |
| 공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57361 |
| 공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68900 |
| 공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92946 |
| 646 | ICP 대기압 플라즈마 분석 [1] | 726 |
| 645 | 플라즈마를 통한 정전기 제거관련. [1] | 735 |
| 644 | Remote plasma source의 주파수 400kHz 이유 [1] | 738 |
| 643 | 안녕하세요. Plasma etch rate에 관하여 질문이 있습니다. [1] | 741 |
| 642 | ICP 후 변색 질문 | 743 |
| 641 | 기판 위에서 Radical의 운동역학에 관하여 질문드립니다. [2] | 745 |
| 640 | O2 플라즈마 사용에 대한 질문을 드립니다. | 750 |
| 639 | 플라즈마 진단 OES 관련 질문 [1] | 753 |
| 638 | Ion과 Radical의 이동 거리 및 거리에 따른 농도와 증착 품질 관련 [1] | 755 |
| 637 | 정전척의 chucking voltage 범위가 궁금합니다. [1] | 757 |
| 636 | 반도체 METAL ETCH 시 CH4 GAS의 역할. [1] | 759 |
| 635 | RPS를 이용한 유기물 식각장비 문의 [1] | 768 |
| 634 | 코로나 전류에 따른 발생되는 이온의 수와, 하전에 영향을 미치는 요소에 대해서 질문드립니다 [1] | 770 |
| 633 | 안녕하세요 OLED 증착 시 궁금한점이있어 문의드립니다 [2] | 770 |
| 632 | 주파수 증가시 플라즈마 밀도 증가 [1] | 773 |
| 631 | 교수님 질문이 있습니다. [1] | 778 |
| 630 |
Hollow Cathode glow Discharge 실험 관련해서 여쭤보고싶습니다.
[1]  | 783 |
| 629 | RF 주파수에 따른 차이점 [1] | 791 |
| 628 | 플라즈마 용어 질문드립니다 [1] | 796 |
| 627 | 새집 증후군 없애는 플러스미 - 플라즈마에 대해서 [1] | 798 |
저도 원인에 대한 확신은 없습니다. 다만, 관련되는 현상으로 floating electrode 표면에서 형성되는 bias을 Vdc라 하니, Vdc, 혹은 부유 전극에 selfbias가 형성되는 과정을 공부해 보시면 원인 해결에 실마리를 찾지 않을지요? 부유 조건이 만족하지 않으면 전하 충전에 의한 self bias가 형성되지 않습니다. 여기서 부유 전위라면 플라즈마와 대면하고 있는 시편의 부도체 coating 표면도 포함이 되니 이 점 참고하시어 기본 현상에서 원인을 찾아 보시기를 추천드립니다.