안녕하세요. 경희대학교에서 플라즈마에 대한 학부연구를 진행하고 있는 박준우라고 합니다.

플라즈마의 전자 온도에 대한 간단한 질문이 있어 QNA 드립니다.

 

플라즈마 내의 전자가 물질(substrate)과 충돌했을 때, 맞은 substrate의 전자도 온도가 올라가는 것으로 알고 있습니다.

이 때 일반적으로 진공에 떠돌아 다니는 전자의 온도와, substrate의 전자 온도의 정의를 똑같이 할 수가 없다고 하는데, 정확히 어떻게 정의가 달라지는지 궁금하여 질문 드립니다.

 

감사합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [330] 102081
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 24544
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 61189
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 73240
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 105459
713 RIE 식각공정중 발생하는 가스를 예측할 수 있는 메커니즘에 대해 질문하고 싶습니다. [플라즈마-화학-표면 반응 모델] [1] 616
712 corona model에 대한 질문입니다. [준중성과 저압플라즈마] [1] 329
711 플라즈마 제균 탈취 가능 여부 [대기압 환경 플라즈마와 라디컬 분포] [1] 458
710 plasma 공정 중 색변화 [플라즈마 진단과 분광학] [1] 1286
709 ISD OES파형 관련하여 질문드립니다. [SiC 식각과 Ring 교체 주기 및 모니터링 방법] [1] 818
708 PEALD장비에 관해서 질문드리고 싶습니다. [장비 세정 및 관리 규칙] [1] 814
707 ICP Dry Etch 설비 DC bias Hunting 관련 질문드립니다. [RF 접지 및 체결, 결합부분 교체] [1] 1132
706 E-field plasma simulation correlating with film growth profile [플라즈마 확산과 밀도 분포] [1] 555
705 SI 표면에 Ar Plasma Etching 하면 안되는 이유 [표면 전처리] [1] 1758
704 OES를 통한 공정 개선사례가 있는지 궁금합니다. [플라즈마의 분포와 공정 진단] [1] 939
703 self bias [쉬스와 표면 전위] [1] 806
702 Self bias 내용 질문입니다. [쉬스와 표면 전위] [1] 1249
701 경전척의 chucking voltage 범위가 궁금합니다. [1] 1075
700 챔버 시즈닝에 대한 플라즈마의 영향성 [플라즈마 생성, Plasma collision reaction] [1] 846
699 PECVD Cleaning에서 Ar Gas의 역활 [Ar plasma, Ar metastable] [1] 1854
698 텅스텐 Plasma Cleaning 효율 불량 [Plasma Cleaning] [1] 603
697 ICP lower power 와 RF bias [Self bias, Floating sheath] [1] 2002
696 CCP RIE 플라즈마 밀도 [Global model, Plasma generation, Ionization collision] [1] 886
695 실리콘 수지 코팅 Tool에 Plasma 클리닝 시 코팅 제거 유/무 [대기압 플라즈마, highly collisional plasma] [1] 407
694 RF 전압인가 시 LF와 HF 에서의 Sheath 비교 [Plasma sheath, Stochastic heating] [1] 1428

Boards


XE Login