CVD 설비에서 GENERATOR에서 온 AC POWER는 MATCHER를 거쳐 S/H로 공급되는데요

 

MATCHER ~ S/H간 연결 방식이 장비 MAKER마다 다른데 특별한 이유가 있나요?

 

어느 설비는 단단하게 고정된 CU, AG 재질을 쓰는 곳이 있고, 어느 설비는 얇은 끈, 전선같은 방식을 채택하기도 하던데

 

RF 전송 PATH의 굵기, 곡률(직각, 직선, 곡률이 있는경우), 재질과 같은 H/W적 요소가 IMPEDANCE MATHCING에 어떤 영향을 미치나요?

 

어떤 내용이나 자료를 공부하면 알 수 있나요?

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [330] 102068
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 24542
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 61187
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 73235
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 105448
753 플라즈마를 알기 위해선 어떤 과목을 공부해야 할까요? [Glow discharge process 이해] [1] 1005
752 대기압 플라즈마 문의드립니다 [플라즈마 전원 이해] [1] 469
751 standing wave effect, skin effect 원리 [Maxwell 방정식 이해] [1] 911
750 Plasma 장비 소재 특성 관련하여 문의드립니다. [DC breakdown 및 sheath] [1] 573
749 RF 주파수에 따른 차이점 [이온 및 전자 주파수 선택] [1] 1360
748 center to edge 문제를 극복하기 위한 방법 2 592
747 center to edge 문제를 극복하기 위한 방법 [CCP 균일도, CCP edge] [1] 1390
746 RF Frequency 가변과 Forward Power의 상관관계 [임피던스 매칭] [2] 1570
745 안녕하세요, RPS나 DEPOSITION 간에 발생하는 ELECTRON TEMPERATURE가 궁금합니다. [플라즈마 충돌 반응] [1] 831
744 RIE Gas 질문 하나 드려도 될까요? [Sheath instability] [1] 624
743 RIE 설비 관련 질문 좀 드려도 될까요? [RF matcher noise] [1] 574
742 안녕하세요 자문을 구할 수 있을지 궁금합니다. [E x B drift] [1] file 756
741 CURRENT PATH로 인한 아킹 [RF 접지 면접촉 개선] [1] file 665
740 플라즈마 전원 공급장치에 대한 질문 [전자 가열 방법 및 생산성에 따른 구별] [1] 848
739 주파수 증가시 플라즈마 밀도 증가 [ICP, CCP 플라즈마 heating] [1] 1207
738 remote plasma를 이용한 SiO2 ethching 질문드립니다. [식각률 self limit과 쉬스 에너지 변화] [1] 1047
737 ICP Dry Etch 설비 DC bias Hunting 관련 질문드립니다. [방전 기전] [1] 824
736 RF sputter 증착 문제 질문드립니다. [OES 진단과 sputter yield] [1] file 564
735 plasma off시 일어나는 현상 문의드립니다. [DC 바이어스 전압과 쉬스 전기장] [1] 593
734 Arcing과 Self-DC Bias Voltage 상관 관계 [Self bias와 DC glow 방전] [1] 1159

Boards


XE Login