안녕하세요.

CVD 공정 엔지니어로 근무 중인데, 전공과 무관한 업무를 하다보니 막히는 경우가 많은데 교수님께 많은 도움을 받고 있습니다. 감사합니다.

다름이 아니라 SiO2 박막 Depo 후, F 입자를 이용하여 Clean을 진행하는데 박막 밀도가 높을 수록 Clean의 효율이 감소하는 결과를 확인했습니다.

제가 추정하는 이유는 두 가지 인데, 제가 추정하는 이유가 맞는지 교수님의 전문적인 견해가 궁금하여 글을 작성합니다..

 

 1) 막질 밀도가 낮을 수록 막질이 phorous하여 빈 공간으로 Radical이 침투하기 용이하여 반응성 증가

 2) 막질 밀도가 낮을 수록 같은 두께의 박막 내 SiO2 분자수가 적기 때문에 제거해야 할 SiO2 분자수가 적어 Clean 효율 증가

 

항상 감사합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [101] 3647
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 15336
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 50576
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 62991
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [2] 82103
649 ICP Dry Etch 진행시 정전기 발생에 관한 질문입니다. [1] 348
» SiO2 박말 밀도와 반응성 간 상관 관계 질문 [1] 265
647 MFP와 Sheath 관련하여 추가 질문 드립니다. [1] 375
646 Tungsten 표면 Contamination 제거(실명재등록) [1] 610
645 plasma 형성 관계 [1] 500
644 RF matcher와 particle 관계 [2] 693
643 Bias 관련 질문 드립니다. [1] 2513
642 Sheath 길이와 전자의 온도 및 MFP간의 관계에 대해 질문 드립니다. [1] 3863
641 Al Dry Etch 후 잔류 Cl 이온 제어를 위한 후처리 방법 [1] 349
640 식각 가스 사용 챔버의 잔류 flourine cleaning 혹은 conditioning 방법 질문 [1] 526
639 임피던스 매칭 및 플라즈마 진단 [1] 539
638 Plasma 식각 test 관련 문의 [1] 3412
637 RF 전압과 압력의 영향? [1] 573
636 Plasma Cleaning 관련 문의 [1] 440
635 Uniformity 관련하여 문의드립니다. [1] 524
634 standing wave effect에 대한 질문이 있습니다. [1] 432
633 ICP 대기압 플라즈마 분석 [1] 341
632 RF 주파수와 공정 Chamber 크기의 상관관계 [1] 670
631 IMPEDANCE MATCHING PATH에서 S/H ~ MATCHER 간 전력전송 방법들에 대해 문의드립니다. [2] 434
630 안녕하세요 DBD 플라즈마 소독 관련질문입니다. [1] 186

Boards


XE Login