Sputtering RF Sputtering Target Issue [Sputtering]

2022.10.28 21:14

백지현 조회 수:1044

안녕하세요 교수님. 이번에 새로이 RF 스퍼터를 사용하게 된 학생입니다. 

첨부한 이미지와 같이 현재 metal oxide 타겟을 이용하여 증착 후 타겟에 검은색 ring 모양의 contamination이 생기는 이슈가 있습니다.

서칭 결과 Magnetic feild로 인한 redeopsition으로 추청되는데 해당 현상이 맞는 것인 지와 현상을 해결하기 위한 방법(e.g. RF power 감소)을 여쭙고자 합니다.

아직 스퍼터를 사용한 지 얼마 되지 않아 많이 미숙하여 자체적인 판단이 어려워 도움을 요청드리는 바입니다.

날이 많이 추워졌는데 건강 조심하시고 좋은 하루 되시길 바랍니다!

 

 

 

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [330] 102038
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 24528
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 61177
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 73222
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 105427
773 Edge ring의 역할 및 원리 질문 [플라즈마 밀도 및 전위 제어] [1] 1385
772 RF generator의 AMP 종류 질문입니다. [RF Power] [1] 366
771 CCP장비 discharge 전압 및 전류 측정 방법 과 matcher 문제 관하여 [HV probe 전압 측정] [2] file 595
770 파장길이와 동축 케이블 길이 관련 문의드립니다 [Matcher 기능] [2] 898
769 스미스차트의 저항계수에 대한 질문드립니다 177
768 Etch Plasma 관련 문의 건.. [RF 주파수와 플라즈마 주파수] [1] 599
767 챔버 내 전자&이온의 에너지 손실에 대해 [에너지 균형과 입자 균형식] [1] 387
766 RF 반사와 전기에서 쓰이는 무효전력 반사 차이점이 궁금합니다. [RF 전원과 매칭] [1] 549
765 FTIR분석을 이용한 SiO2성막 해석 461
764 플라즈마 에너지가 온도를 높혀주는 역할 [전자 충돌 현상 및 입자 충돌 현상] [1] 541
763 ICP 방식에서 RF Foward Power를 상향하면 ER이 빨라지는 이유 [플라즈마 생성 반응] [1] 678
762 AP plasma 공정 관련 문의 [OES 활용 장비 플라즈마 데이터 분석] [1] 412
761 Cu migration 방지를 위한 스터디 [전자재료] [1] 549
760 PECVD설비 Matcher 아킹 질문 [RF 전원과 matcher] [2] 1141
759 Remote plasma source의 주파수 400kHz 이유 [Remote plasma 이해] [1] 1582
758 DBD 플라즈마 작동 시 유전체에 가해지는 데미지 [상압플라즈마 소스] [1] 320
757 CCP 설비 Capacitance 및 Impedance 변화에 따른 Vpp 변동성 문의 [플라즈마 회로 설계] [2] 819
756 플라즈마를 이용한 물속 세균 살균 질문드립니다. [Bactericidal 이해] [2] 342
755 gas에 따른 deposition rate 및 저항질문 있습니다 [박막 문제] [1] 543
754 PECVD Uniformity [플라즈마 균일도 제어] [1] 1184
쓰기
태그

Boards

XE Login