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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 73156
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833 Ar Plasma로 AlN Pedestal 표면에 AlFx desorption 가능 여부가 궁금합니다. [1] 98
832 PEALD 챔버 세정법 [1] 165
831 RF BIAS REDLECT POWER HUNTING 문제 [1] 202
830 RF ROD 연결부 부하로 인한 SHUNT, SERIES 열화 [2] file 268
829 HF와 LF중 LF REFLECT POWER가 커지는 현상에 대해서 도움이 필요합니다. [2] 355
828 III-V 반도체 에칭 공정 문의 [1] 475
827 CCP 장비 하부 전극 dc 펄스 전력 [1] 339
826 DC Arc Plasma Torch 관련 문의 [1] 301
825 Wafer 영역별 E/R 차이에 대한 질문 [Gas flow system vs E/R] [1] 458
824 동일한 RF방전챔버에서 화학종별 이온화율에 대한 질문 [1] 252
823 ESC 사용 공정에서 Dummy Wafer Chuck Force 에 대해서 궁급합니다 [1] 709
822 liquid plasma 공부 방향에 대해서 알고싶습니다. [1] 406
821 ICP 장비 TCP Reflect 발생 간 조언 부탁드립니다. [1] 456
820 RF플라즈마에서 quasineutral에 대해 궁금한게 있어 질문글 올립니다.[quasineutral] [1] file 540
819 챔버의 Plasma density 확인방법 문의드립니다. [플라즈마 모니터링, OES, LP] [1] 711
818 ICP/CCP 플라즈마 식각 공정 개발 [Plasma sheath 및 Plasma generation] [1] 867
817 HF PLASMA DEPOSITION 시 POWER에 따른 DEP RATE 변화 [장비 플라즈마, Rate constant] [1] 434
816 인가전압과 ESC의 관계 질문 [Floating sheath] [1] 555
815 Dielectric Etcher(CCP)에서 사용하는 주파수 [Plasma frequency 및 RF sheath] [2] 697
814 ICP에서 biasing 질문 [RF sheath와 self bias] [1] 632
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