Others 플라즈마 주파수 예측관련 질문드립니다
2022.11.23 13:36
안녕하세요
현재 반도체관련 회사에 인턴중입니다.
다름아니라 스퍼터 내부 플라즈마 주파수를 이론상 예측하려고하는데요,
electron density 혹은 power나 voltage로 계산할 수 있는 수식이 있나 여쭤봅니다.
책가방정도의 크기의 챔버에 100W정도 흘릴 예정입니다.
혹시 비슷한 상황에서 플라즈마 주파수를 측정해본 적 있으시다면 조언 부탁드립니다
감사합니다!
| 번호 | 제목 | 조회 수 |
|---|---|---|
| 공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [160] | 73027 |
| 공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 17616 |
| 공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 55516 |
| 공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 65696 |
| 공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 86027 |
| 706 | Si 표면에 Ar Plasma Etching하면 안되는 이유 | 13 |
| 705 | OES를 통한 공정 개선 사례가 있는지 궁금합니다. | 32 |
| 704 | self bias [1] | 98 |
| 703 | Self bias 내용 질문입니다. [1] | 75 |
| 702 | 정전척의 chucking voltage 범위가 궁금합니다. [1] | 91 |
| 701 | 챔버 시즈닝에 대한 플라즈마의 영향성 [1] | 105 |
| 700 | PECVD Cleaning에서 Ar Gas의 역활 [1] | 125 |
| 699 | 텅스텐 Plasma Cleaning 효율 불량 [1] | 113 |
| 698 | ICP lower power 와 RF bias [1] | 404 |
| 697 | CCP RIE 플라즈마 밀도 [1] | 211 |
| 696 | 실리콘 수지 코팅 Tool에 Plasma 클리닝 시 코팅 제거 유/무 [1] | 66 |
| 695 | RF 전압인가 시 LF와 HF 에서의 Sheath 비교 [1] | 280 |
| 694 | 기판표면 번개모양 불량발생 [1] | 201 |
| 693 |
진공수준에 따른 RF plasma 영향 관련 질문
[1]  | 287 |
| 692 | OLED에서 SF6와 CF4를 사용하는 이유를 알고 싶습니다. [1] | 17212 |
| 691 | plasma modeling 관련 질문 [1] | 236 |
| 690 | 플라즈마 진단 OES 관련 질문 [1] | 364 |
| 689 | O2 플라즈마 사용에 대한 질문을 드립니다. | 474 |
| » | 플라즈마 주파수 예측관련 질문드립니다 [1] | 838 |
| 687 | Ta deposition시 DC Source Sputtreing | 2287 |
반응기 설계 시 global model 을 사용해서 플라즈마 밀도와 온도를 예상하고 이를 적용해서 공정 시나리오를 예상해 볼 수 있습니다. 여기서 사용하는 global model 은 plasma 하전 입자 밀도와 전자 온도를 energy balance 와 particle balance equations으로 연립해서 해를 구해 얻습니다. gloabl model 이라 하면 여기서 얻은 밀도/온도는 모두 chamber 내에 균일하고 분포한 플라즈마를 가정한다, 즉 공간 분포를 고려하지 않음을 의미합니다.
이 모델에 대해서는 게시판이나 플라즈마 기초 교재에서 찾아 보실 수 있습니다. 혹시 두 식을 모두 세우기 힘들다면 입력 전력은 인가 전력으로 가정하고, 전자 온도를 2-4 eV 에서 선택하고 Ar 기준으로 풀어봐도 근사값을 얻으실 수 있을 것 같습니다. 관련 연구 결과들과도 비교해 보세요.