안녕하세요 부산대학교 학사과정을 진행중인 서재현입니다.

 

열심히 관련 사항들을 찾아보고 이론적 이유를 알고자 하였으나 제가 전자전공이 아닌 기계전공이라 정보를 찾는데 한계가 있어 질문드립니다!

 

현재 RF Ion source unit 을 이용해 플라즈마를 발생시켜 이용하는 장비를 사용하고 있습니다.

   제가 사용하는 장비의 AO flux는

1. rf에서 발생한 plasma를 재료에 노출

2. 노출에 따른 재료의 질량손실 발생

3. 질량손질을 이용한 ao flux 계산

의 방법을 사용해 측정한걸로 알고 있습니다.        이때의 조건은 압력 : 10^-6 torr,    o2 gas : 9.9sccm,     임피던스 130w 입니다.

그리고 그 결과 재료에서 ao flux 는 6.13 * 10^15 atom/cm^2s 측정되었다고 설명되어 있습니다.

 

제가 궁금한 점은 진공수준에 따른 ao flux의 변화를 그래프와 같은 수식으로 표현할 수 있는 방법이 존재하는가 입니다.

 

게시판의 지식을 통해 제가 이해한 것으로는, 만약 다른조건은 동일하지만 압력만 10^-2 torr 로 조건을 변화시킨다면 ao flux는 진공수준이 낮아졌기에 감소하게 될 것입니다. 10^-6 torr 에서는 ao flux는 ao flux 는 6.13 * 10^15 atom/cm^2s 였습니다. 그렇다면 10^-2 torr에서 ao flux는 이보다 감소한 값을 가지게 될 것입니다.

 

제가 ao flux가 감소할 거라 생각한 이유는

1. 진공수준이 감소함에 따라 plasma가 이동하는데 방해를 많이 받음

2. 이러한 방해로 인해 plasma source로 부터 발생한 ao 가 재료에 영향을 주는 정도가 감소

3. 결과적으로 ao flux가 적게 측정되는 결과 입니다.

 

그래서 제가 질문할 것은 다음과 같습니다.

 : 진공수준과 ao flux를 수식적 혹은 그래프로 연구된 자료가 있는가? 와 없다면 실험적으로 측정하는 방법밖에 없는가 입니다!

결과적으로 다른 조건이 동일하고 압력 수준만 10^-6 torr에서 10^-2 torr로 바뀌면 ao 의 변화정도 입니다.

 

감사합니다!

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [329] 98266
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 23859
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 60540
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 72407
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 103115
» 전공수준에 따른 RF plasma 영향 관련 질문 [Ion beam source] [1] file 804
691 OLED에서 SF6와 CF4를 사용하는 이유를 알고 싶습니다. [Etching] [1] 29853
690 plasma modeling 관련 질문 [Balance equation] [1] 537
689 플라즈마 진단 OES 관련 질문 [OES와 atomic spectroscopy] [1] 1079
688 O2 플라즈마 사용에 대한 질문을 드립니다. 904
687 플라즈마 주파수 예측관련 질문드립니다 [Global model과 Balance equation] [1] 1366
686 Ta deposition시 DC Source Sputtreing 2458
685 전자밀도 크기에 대하여 질문드립니다. (Ar, O2, N2 가스) [Plasma density와 Balance equation] [1] 1683
684 OES를 이용한 Gas Species 정량적 분석 방법 [수소, Ar 단원자 진단] [1] 1184
683 sticking coefficient 관련 질문입니다. [HAR, LF bias] [1] 1364
682 RF Sputtering Target Issue [Sputtering] [2] file 1001
681 OES 파장 관련하여 질문 드립니다. [데이터+플라즈마광학 모델] [1] 892
680 PECVD 증착시 온도, 기판의 종류의 영향에 대해서 질문드립니다! [PECVD와 PACVD] [1] 2535
679 plasma striation 관련 문의 [Plasma striation] [1] file 804
678 Chamber impedance 범위에 대해 질문드립니다. 695
677 주파수 변화와 Plasma 온도 연관성 [Plasma heating] [1] 895
676 Chamber 내 Pressure와 Fluid Density, Residence Time [TVP(Thorottle Valve Position)] [1] file 884
675 RPSC 시 Pressure와 Throttle Valve Position의 관계 [Plasma cleaning] [1] file 1649
674 Plasma Ignition 시 Gas 사용에 대한 궁금증 요청드립니다. [Pachen's law와 Ar Gas] [1] 1755
673 Plasma Arching [Plasma property] [1] 1371

Boards


XE Login