Plasma in general 실리콘 수지 코팅 Tool에 Plasma 클리닝 시 코팅 제거 유/무 [대기압 플라즈마, highly collisional plasma]

2023.01.16 16:15

karsir 조회 수:405

Air나 N2를 활용한 로테이팅 젯 플라즈마로 Tool의 유기오염 제거를 평가 적용하고자 합니다.

해당 Tool은 오염 점착 방지를 위하여 실리콘 수지가 Amu(에이뮤코팅)되어 수um T.를 형성하고 있습니다.

실리콘 수지가 중합체일 것으로 추정되는데 Plasma가 해당 코팅에는 어떤 영향을 줄지 궁금합니다.

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [330] 101895
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 24468
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 61125
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 73158
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 105325
833 Ar Plasma로 AlN Pedestal 표면에 AlFx desorption 가능 여부가 궁금합니다. [1] 98
832 PEALD 챔버 세정법 [1] 165
831 RF BIAS REDLECT POWER HUNTING 문제 [1] 202
830 RF ROD 연결부 부하로 인한 SHUNT, SERIES 열화 [2] file 268
829 HF와 LF중 LF REFLECT POWER가 커지는 현상에 대해서 도움이 필요합니다. [2] 355
828 III-V 반도체 에칭 공정 문의 [1] 475
827 CCP 장비 하부 전극 dc 펄스 전력 [1] 339
826 DC Arc Plasma Torch 관련 문의 [1] 301
825 Wafer 영역별 E/R 차이에 대한 질문 [Gas flow system vs E/R] [1] 458
824 동일한 RF방전챔버에서 화학종별 이온화율에 대한 질문 [1] 252
823 ESC 사용 공정에서 Dummy Wafer Chuck Force 에 대해서 궁급합니다 [1] 709
822 liquid plasma 공부 방향에 대해서 알고싶습니다. [1] 406
821 ICP 장비 TCP Reflect 발생 간 조언 부탁드립니다. [1] 456
820 RF플라즈마에서 quasineutral에 대해 궁금한게 있어 질문글 올립니다.[quasineutral] [1] file 540
819 챔버의 Plasma density 확인방법 문의드립니다. [플라즈마 모니터링, OES, LP] [1] 711
818 ICP/CCP 플라즈마 식각 공정 개발 [Plasma sheath 및 Plasma generation] [1] 867
817 HF PLASMA DEPOSITION 시 POWER에 따른 DEP RATE 변화 [장비 플라즈마, Rate constant] [1] 434
816 인가전압과 ESC의 관계 질문 [Floating sheath] [1] 555
815 Dielectric Etcher(CCP)에서 사용하는 주파수 [Plasma frequency 및 RF sheath] [2] 703
814 ICP에서 biasing 질문 [RF sheath와 self bias] [1] 633
쓰기
태그

Boards

XE Login