Etch 텅스텐 Plasma Cleaning 효율 불량 [Plasma Cleaning]

2023.02.09 13:21

텅스텐 조회 수:603

안녕하세요. 반도체 회사 재직중인 설비엔지니어입니다.

 

텅스텐 DEPO 설비 유지보수 중에 RF Plasma를 통한 텅스텐 Cleaning에 문제점이 생겨 조언을 얻고자 질문드립니다.

 

텅스텐 Plasma Clean 조건

2100W Generator Power / C2F6 : O2 (1:1 비율) / 300mTorr Chamber Pressure / 13.56MHZ Matcher

 

Plasma Cleaning 진행 중 깜빡깜빡이는 현상이 확인되며 PM을 하고자 Chamer Open 했을 때

텅스텐이 Etching 되지 않고 Heater 및 Shower Head에 텅스텐이 그대로 남아있는 현상이 발생했습니다.

 

관련하여 챔버에 압력/Clean gas/RF 계통의 Part들을 교체해 보고 있으나 현상이 개선되지 않아

플라즈마 깜빡깜빡이는 현상이 Etching 효율을 떨어뜨리는 걸로 보이는데 문제점이 무엇일지 조언 받고싶습니다.

감사합니다.

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [330] 102075
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 24543
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 61188
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 73236
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 105453
793 플라즈마 식각 커스핑 식각량 220
792 Showerhead와 Heater간 간격에 따른 RPC 효율성 [Pachen's law 이해] [1] 448
791 C2H2 플라즈마코팅시 가스 원인과 대책 115
790 DBD 방전 방식의 저온 플라즈마 관련해서 3가지 질문 드립니다. [DBD 방전과 DC breakdown] [1] 412
789 진공 챔버에서 Plasma Off시 Particle의 wafer 표면 충돌 속도 [Sheath energy] [1] 438
788 플라즈마 설비에 대한 질문 292
787 RF magnetron Sputtering 공정에서의 질문 [Lorentz force와 ExB drift 이해] [1] 478
786 Non-maxwellian 전자 분포의 원인 [Druyvesteyn distribution 이해] [1] 818
785 skin depth에 대한 이해 [Stochastic heating 이해] [1] 758
784 Impedance I 값을 결정 짓는 요소 관련 질문 [Impedance matching 이해] [1] 453
783 반사파에 의한 micro arc 질문 [VHF 전력 인가] [2] 374
782 ICP에서의 Self bias 효과 [DC offset voltage와 floating potential] [1] 794
781 CF4/Ar 을 활용한 Si/SiO2 에칭에 관한 질문입니다. [식각 교재 참고] [1] file 641
780 Sputtering을 이용한 film deposition [진공 및 오염입자의 최소화] [1] 508
779 Ni DC 스퍼터 관련 질문있습니다. [Base pressure 이해] [1] 383
778 플라즈마 밀도와 라디칼 [플라즈마 충돌 반응] [1] 988
777 Microwave & RF Plasma [플라즈마 주파수와 rate constant] [1] 678
776 플라즈마 식각 시 notching 현상 관련 [Ar, O2 플라즈마 생성 특성] [1] 577
775 ICP에서 전자의 가속 [Plasma breakdown 이해] [1] 428
774 내플라즈마 코팅의 절연손실에 따른 챔버 내부 분위기 영향 여부 질문드립니다. [유전체 상태 모니터링] [1] 335
쓰기
태그

Boards

XE Login