Remote Plasma PECVD Cleaning에서 Ar Gas의 역활 [Ar plasma, Ar metastable]

2023.03.02 15:45

청주꽃남 조회 수:1793

기초적인 질문인데요

PECVD 장비에서 Cleaning을 할때 보통 Remote plasma NF3 + Ar Gas를 사용하는데요

Ar Gas의 정확한 역할을 알고 싶습니다.

 

Purge나 Carrier 용도라면 N2나 O2도 사용가능한데 굳이 Ar을 사용하는 다른 목적이 있는건지 궁금합니다.

감사합니다.

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [329] 98953
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 23976
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 60645
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 72558
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 103530
712 corona model에 대한 질문입니다. [준중성과 저압플라즈마] [1] 311
711 플라즈마 제균 탈취 가능 여부 [대기압 환경 플라즈마와 라디컬 분포] [1] 436
710 plasma 공정 중 색변화 [플라즈마 진단과 분광학] [1] 1196
709 ISD OES파형 관련하여 질문드립니다. [SiC 식각과 Ring 교체 주기 및 모니터링 방법] [1] 780
708 PEALD장비에 관해서 질문드리고 싶습니다. [장비 세정 및 관리 규칙] [1] 782
707 ICP Dry Etch 설비 DC bias Hunting 관련 질문드립니다. [RF 접지 및 체결, 결합부분 교체] [1] 1082
706 E-field plasma simulation correlating with film growth profile [플라즈마 확산과 밀도 분포] [1] 530
705 SI 표면에 Ar Plasma Etching 하면 안되는 이유 [표면 전처리] [1] 1702
704 OES를 통한 공정 개선사례가 있는지 궁금합니다. [플라즈마의 분포와 공정 진단] [1] 900
703 self bias [쉬스와 표면 전위] [1] 772
702 Self bias 내용 질문입니다. [쉬스와 표면 전위] [1] 1213
701 경전척의 chucking voltage 범위가 궁금합니다. [1] 1038
700 챔버 시즈닝에 대한 플라즈마의 영향성 [플라즈마 생성, Plasma collision reaction] [1] 817
» PECVD Cleaning에서 Ar Gas의 역활 [Ar plasma, Ar metastable] [1] 1793
698 텅스텐 Plasma Cleaning 효율 불량 [Plasma Cleaning] [1] 578
697 ICP lower power 와 RF bias [Self bias, Floating sheath] [1] 1960
696 CCP RIE 플라즈마 밀도 [Global model, Plasma generation, Ionization collision] [1] 862
695 실리콘 수지 코팅 Tool에 Plasma 클리닝 시 코팅 제거 유/무 [대기압 플라즈마, highly collisional plasma] [1] 393
694 RF 전압인가 시 LF와 HF 에서의 Sheath 비교 [Plasma sheath, Stochastic heating] [1] 1380
693 기판표면 번개모양 불량발생 [Plasma charging] [1] 892
쓰기
태그

Boards

XE Login