안녕하세요.

 

실제 양산에서 150mm  200mm 300mm 정전척 마다 chucking을 위해 인가 되는 voltage 값이 얼마 정도 되는지 궁금합니다.

 

그리고 chucking voltage가 너무 크면 생기는 문제와 그 maximum 값을 정하는 지표가 따로 있을까요?

 

너무 궁금해서 논문도 찾아보고 그러는데 오픈 되어있는 정보가 너무 없는 것 같아서 답답하네요..

 

도움을 부탁드립니다...

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [313] 80015
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 21443
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 58232
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 69824
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 94854
724 Plasma Reflect를 관리하는 방법이 있을까요? [임피던스 매칭] [1] 776
723 애칭 후 부산물의 양을 알고 싶습니다. [Materials processing] [1] 470
722 화장품 원료의 플라즈마 처리 문의 [환경 플라즈마] [1] file 228
721 Lxcat dataset에 따른 Plasma discharge에 대한 질문입니다. [CX 데이터] [1] 201
720 플라즈마 공정 후, 친수성으로 변한 표면의 친수성 제거 [공정 조절과 CF4 계열 플라즈마] [1] 497
719 Compressive한 Wafer에 대한 질문 [박막] [1] 296
718 [재질문]에칭에 필요한 플라즈마 가스 [플라즈마 식각기술] [1] 760
717 ICP VIPOLAR ESC 관련 이론과 Chuck Force 계산 질문드립니다 [Plasma breakdown 및 생성] [1] file 1083
716 Ashing 공정에 필요한 O2plasma에 대해 궁금한 점이 있습니다. [전자 충돌 이온화 반응 해리 반응 흡착 반응] [1] 1917
715 메틸기의 플라즈마 에칭반응 메커니즘 [공정 플라즈마] [1] 406
714 안녕하세요 CLEAN GAS 관련 질문이 있습니다. [플라즈마 이온화 및 해리 반응, 반응기 벽면 세정] [1] 595
713 RIE 식각공정중 발생하는 가스를 예측할 수 있는 메커니즘에 대해 질문하고 싶습니다. [플라즈마-화학-표면 반응 모델] [1] 460
712 corona model에 대한 질문입니다. [준중성과 저압플라즈마] [1] 212
711 플라즈마 제균 탈취 가능 여부 [대기압 환경 플라즈마와 라디컬 분포] [1] 273
710 plasma 공정 중 색변화 [플라즈마 진단과 분광학] [1] 821
709 ISD OES파형 관련하여 질문드립니다. [SiC 식각과 Ring 교체 주기 및 모니터링 방법] [1] 556
708 PEALD장비에 관해서 질문드리고 싶습니다. [장비 세정 및 관리 규칙] [1] 499
707 ICP Dry Etch 설비 DC bias Hunting 관련 질문드립니다. [RF 접지 및 체결, 결합부분 교체] [1] 742
706 E-field plasma simulation correlating with film growth profile [플라즈마 확산과 밀도 분포] [1] 392
705 SI 표면에 Ar Plasma Etching 하면 안되는 이유 [표면 전처리] [1] 1316

Boards


XE Login