안녕하세요!

플라즈마를 좋아하고 공부하고 있는 디스플레이 엔지니어입니다!

 

OES를 스펙트럼 분석을 통해서 공정 개선을 해보고 싶습니다.

그이전에, OES를 통해서 공정중 막질 Uniformity를 개선한 사례가 있는지 궁금합니다.

 

혹시 조언을 얻을 수 있을까요??

감사합니다!!!

 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [253] 76392
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 19972
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57059
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68530
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 91232
713 RIE 식각공정중 발생하는 가스를 예측할 수 있는 메카니즘에 대해 질문하고싶습니다. [1] 334
712 corona model에 대한 질문입니다. [1] 165
711 플라즈마 제균 탈취 가능 여부 [1] 191
710 plasma 공정 중 색변화 [1] 538
709 ISD OES파형 관련하여 질문드립니다. [1] 391
708 PEALD 장비에 관해서 문의드리고 싶습니다. [1] 370
707 ICP Dry Etch 설비 DC bias Hunting 관련 질문드립니다. [1] 564
706 E-field plasma simulation correlating with film growth profile [1] 295
705 Si 표면에 Ar Plasma Etching하면 안되는 이유 [1] 909
» OES를 통한 공정 개선 사례가 있는지 궁금합니다. [1] 543
703 self bias [1] 490
702 Self bias 내용 질문입니다. [1] 692
701 정전척의 chucking voltage 범위가 궁금합니다. [1] 639
700 챔버 시즈닝에 대한 플라즈마의 영향성 [1] 560
699 PECVD Cleaning에서 Ar Gas의 역활 [1] 1044
698 텅스텐 Plasma Cleaning 효율 불량 [1] 330
697 ICP lower power 와 RF bias [1] 1322
696 CCP RIE 플라즈마 밀도 [1] 543
695 실리콘 수지 코팅 Tool에 Plasma 클리닝 시 코팅 제거 유/무 [1] 166
694 RF 전압인가 시 LF와 HF 에서의 Sheath 비교 [1] 787

Boards


XE Login