상세한 답변 정말 감사합니다!! 추가 질문이 있습니다. 
1. 현업에서 스크레치와 같은 defect들은 대부분 edge에서 일어난다고 알고있습니다. 그렇다면 etch 공정 기술 엔지니어로서, edge의 수율을 높이는 방법에는 무엇이 있을까요? 

저는 이 방법을 center to edge 균일도 제어로 생각해서 위와 같은 질문을 드렸는데, 여기서는 추가 부품을 사용하는 방법을 써야하므로 공정 레시피 측면에서 제어할 요소가 적다고 말씀하셔서 추가 질문 드립니다! 

2. 양산 수율 달성 측면에서, 높은 aspect ratio로 인한 문제가 핵심인 것이 맞나요?

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [253] 76390
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 19971
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57059
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68529
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 91230
753 플라즈마를 알기 위해선 어떤 과목을 공부해야 할까요? [1] 529
752 대기압 플라즈마 문의드립니다 [1] 207
751 standing wave effect, skin effect 원리 [1] 247
750 Plasma 장비 소재 특성 관련하여 문의드립니다. [1] 277
749 RF 주파수에 따른 차이점 [1] 588
» center to edge 문제를 극복하기 위한 방법 2 356
747 center to edge 문제를 극복하기 위한 방법 [1] 616
746 RF Frequency 가변과 FORWARD POWER의 상관관계 [2] 582
745 안녕하세요, RPS나 DEPOSITION간에 발생하는 ELECTRON TEMPERATURE가 궁금합니다. [1] 331
744 RIE Gas 질문 하나 드려도될까요? [1] 286
743 RIE 설비 관련 질문 좀 드려도 될까요? [1] 268
742 안녕하세요. 자문을 구할 수 있을지 궁금합니다. [1] file 461
741 CURRENT PATH로 인한 아킹 [1] file 361
740 플라즈마 전원 공급장치에 대한 질문 [1] 354
739 주파수 증가시 플라즈마 밀도 증가 [1] 563
738 remote plasma 를 이용한 SiO2 etching 질문드립니다. [1] 366
737 ICP Dry Etch 설비 DC bias Hunting 관련 질문드립니다. [1] 360
736 RF sputter 증착 문제 질문드립니다. [1] file 270
735 plasma off시 일어나는 현상 문의드립니다 [1] 310
734 Arcing 과 Self-DC Bias Voltage 상관 관계 [1] 466

Boards


XE Login