상세한 답변 정말 감사합니다!! 추가 질문이 있습니다. 
1. 현업에서 스크레치와 같은 defect들은 대부분 edge에서 일어난다고 알고있습니다. 그렇다면 etch 공정 기술 엔지니어로서, edge의 수율을 높이는 방법에는 무엇이 있을까요? 

저는 이 방법을 center to edge 균일도 제어로 생각해서 위와 같은 질문을 드렸는데, 여기서는 추가 부품을 사용하는 방법을 써야하므로 공정 레시피 측면에서 제어할 요소가 적다고 말씀하셔서 추가 질문 드립니다! 

2. 양산 수율 달성 측면에서, 높은 aspect ratio로 인한 문제가 핵심인 것이 맞나요?

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [321] 86443
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 22669
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 59375
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 71133
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 98368
768 Etch Plasma 관련 문의 건.. [RF 주파수와 플라즈마 주파수] [1] 464
767 챔버 내 전자&이온의 에너지 손실에 대해 [에너지 균형과 입자 균형식] [1] 283
766 RF 반사와 전기에서 쓰이는 무효전력 반사 차이점이 궁금합니다. [RF 전원과 매칭] [1] 182
765 FTIR분석을 이용한 SiO2성막 해석 357
764 플라즈마 에너지가 온도를 높혀주는 역할 [전자 충돌 현상 및 입자 충돌 현상] [1] 452
763 ICP 방식에서 RF Foward Power를 상향하면 ER이 빨라지는 이유 [플라즈마 생성 반응] [1] 591
762 AP plasma 공정 관련 문의 [OES 활용 장비 플라즈마 데이터 분석] [1] 302
761 Cu migration 방지를 위한 스터디 [전자재료] [1] 431
760 PECVD설비 Matcher 아킹 질문 [RF 전원과 matcher] [2] 948
759 Remote plasma source의 주파수 400kHz 이유 [Remote plasma 이해] [1] 1280
758 DBD 플라즈마 작동 시 유전체에 가해지는 데미지 [상압플라즈마 소스] [1] 247
757 CCP 설비 Capacitance 및 Impedance 변화에 따른 Vpp 변동성 문의 [플라즈마 회로 설계] [2] 684
756 플라즈마를 이용한 물속 세균 살균 질문드립니다. [Bactericidal 이해] [2] 272
755 gas에 따른 deposition rate 및 저항질문 있습니다 [박막 문제] [1] 422
754 PECVD Uniformity [플라즈마 균일도 제어] [1] 916
753 플라즈마를 알기 위해선 어떤 과목을 공부해야 할까요? [Glow discharge process 이해] [1] 883
752 대기압 플라즈마 문의드립니다 [플라즈마 전원 이해] [1] 372
751 standing wave effect, skin effect 원리 [Maxwell 방정식 이해] [1] 690
750 Plasma 장비 소재 특성 관련하여 문의드립니다. [DC breakdown 및 sheath] [1] 447
749 RF 주파수에 따른 차이점 [이온 및 전자 주파수 선택] [1] 1094

Boards


XE Login