안녕하세요.

Remote plasma source에 대해 질문 드립니다!

 

Cleaning을 위한 Remote plasma source에 사용되는

 

전원회로의 주파수가 주로 400kHz인 이유가 있을까요?

 

400kHz를 썼을 때 어떤 특성이 좋아지는건가요?

 

감사합니다!

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [279] 76957
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20320
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57241
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68789
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92781
761 Cu migration 방지를 위한 스터디 [1] 231
760 PECVD설비 Matcher 아킹 질문 [2] 588
» Remote plasma source의 주파수 400kHz 이유 [1] 641
758 DBD 플라즈마 작동 시 유전체에 가해지는 데미지 [1] 143
757 CCP 설비 Capacitance 및 Impedance 변화에 따른 Vpp 변동성 문의 [2] 431
756 플라즈마를 이용한 물속 세균 살균 질문드립니다. [2] 197
755 gas에 따른 deposition rate 및 저항질문 있습니다 [1] 271
754 PECVD Uniformity [1] 556
753 플라즈마를 알기 위해선 어떤 과목을 공부해야 할까요? [1] 666
752 대기압 플라즈마 문의드립니다 [1] 259
751 standing wave effect, skin effect 원리 [1] 402
750 Plasma 장비 소재 특성 관련하여 문의드립니다. [1] 324
749 RF 주파수에 따른 차이점 [1] 750
748 center to edge 문제를 극복하기 위한 방법 2 420
747 center to edge 문제를 극복하기 위한 방법 [1] 814
746 RF Frequency 가변과 FORWARD POWER의 상관관계 [2] 798
745 안녕하세요, RPS나 DEPOSITION간에 발생하는 ELECTRON TEMPERATURE가 궁금합니다. [1] 489
744 RIE Gas 질문 하나 드려도될까요? [1] 330
743 RIE 설비 관련 질문 좀 드려도 될까요? [1] 304
742 안녕하세요. 자문을 구할 수 있을지 궁금합니다. [1] file 521

Boards


XE Login