안녕하십니까, 교수님. 전자과 3학년 학부생입니다.

최근 공정에 사용되는 실제 플라즈마 설비 구조가 궁금하여 조금 조사해보았는데, 질문 드리고 싶은 부분이 몇가지 있습니다.

 

1. CCP의 경우, gas injection의 효율상 전극 하부에 최대한 가깝게 Shower head를 설치해야할 것이라고 생각합니다. 혹은 용어만 다를 뿐 실제로는 Powerd Electode=Shower head일까요?

 

2. ICP에서 상부에 안테나와 플라즈마를 격리하는 Quartz window는 Skin depth를 최대한 늘리기 위한 물질을 선택한 것인가요?

 

3.Planar ICP의 경우에는 Quatz window 하부에 Shower head 장착이 가능한지, 

Cylindrical 구조의 ICP의 경우 상부에 Shower head를 장착하고, 챔버 측면이 Quartz로 덮여있는지 궁금합니다. 

 

 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [337] 111374
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 27818
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 65084
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 76884
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 111141
796 공정 DATA TARGET 간 난제가 있어 문의드립니다. [Sheath uniformity 이해] [1] 699
795 Si 와 SiO의 선택적 식각 관련 문의입니다. 523
794 Druyvesteyn Distribution 536
793 플라즈마 식각 커스핑 식각량 312
792 Showerhead와 Heater간 간격에 따른 RPC 효율성 [Pachen's law 이해] [1] 603
791 C2H2 플라즈마코팅시 가스 원인과 대책 197
790 DBD 방전 방식의 저온 플라즈마 관련해서 3가지 질문 드립니다. [DBD 방전과 DC breakdown] [1] 555
789 진공 챔버에서 Plasma Off시 Particle의 wafer 표면 충돌 속도 [Sheath energy] [1] 567
» 플라즈마 설비에 대한 질문 400
787 RF magnetron Sputtering 공정에서의 질문 [Lorentz force와 ExB drift 이해] [1] 603
786 Non-maxwellian 전자 분포의 원인 [Druyvesteyn distribution 이해] [1] 1005
785 skin depth에 대한 이해 [Stochastic heating 이해] [1] 1063
784 Impedance I 값을 결정 짓는 요소 관련 질문 [Impedance matching 이해] [1] 580
783 반사파에 의한 micro arc 질문 [VHF 전력 인가] [2] 550
782 ICP에서의 Self bias 효과 [DC offset voltage와 floating potential] [1] 1006
781 CF4/Ar 을 활용한 Si/SiO2 에칭에 관한 질문입니다. [식각 교재 참고] [1] file 809
780 Sputtering을 이용한 film deposition [진공 및 오염입자의 최소화] [1] 688
779 Ni DC 스퍼터 관련 질문있습니다. [Base pressure 이해] [1] 562
778 플라즈마 밀도와 라디칼 [플라즈마 충돌 반응] [1] 1236
777 Microwave & RF Plasma [플라즈마 주파수와 rate constant] [1] 941

Boards


XE Login